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玻璃芯基板

更新 2026-10-29

定義

以玻璃取代傳統有機材料(FR4/ABF)作為封裝基板芯材或中介層,具備更低翹曲、更低訊號損耗、更大尺寸優勢。依應用分為三個層次:Glass Carrier、Glass Core、Glass Interposer。

野村 2026-05-21 報告將玻璃芯基板定位為先進封裝的新興技術:Intel 已公開展示玻璃核心基板,但定位為本世代後段的基礎研究,並非即將高量產;Absolics(SKC 子公司)已取得美國 CHIPS Act 初步支持,規劃在喬治亞建立玻璃基板廠;AGC、Corning、Schott 則投入低 CTE 玻璃與封裝級材料格式。

三層分類架構

自繪_玻璃基板三種剖面

圖說:玻璃基板依應用分三層。① Glass Carrier:薄晶圓加工(薄化、TSV 顯露、混合鍵合)時用釋放層與黏著層暫時鍵合,完成後雷射解鍵合、載板移除再利用,技術最成熟;② Glass Core Substrate:玻璃取代有機 ABF 芯,TGV 貫穿玻璃,上下兩面做增層線路,留在封裝基板內(TGV 深寬比約 10:1,晶呈 LADY 製程已達到);③ Glass Interposer:玻璃 TGV 中介層取代矽中介層,放在有機載板上,深寬比需求更高,目前仍在開發。自繪剖面,層序參考元大 2026-07-21 與 IEEE EPS John Lau 2026-09-24 的玻璃基板剖面。

與有機載板比較

特性 玻璃芯基板 有機載板(ABF)
翹曲 低(CTE 接近矽) 高(有機材料 CTE 差異大)
訊號損耗 低(低 Df) 較高
最大尺寸 大(面板級) 受限於基板廠設備
厚度 薄 較厚
成本 高(初期) 成熟低成本
易碎性 高(玻璃脆) 低

野村歸納玻璃相對 ABF 的核心優勢為:平整度高、較少翹曲、散熱較佳、低損耗有利高速訊號,以及支援大尺寸整合;這些優勢對 AI / HPC 封裝的高功耗、大面積、高 I/O 數需求特別重要。

PI 提升與成本佔比邏輯(郭明錤 2026-06-11)

針對台積電 CoWoS 玻璃核心基板(memo_郭明錤_台積電玻璃芯基板oS解讀_20260611):

  • PI(電源完整性)提升機制:玻璃核心變薄 → TGV 垂直導通通道變短 → 通道電阻 R 與迴路電感 L 雙降 → PI 提升 → 釋放更多 Power Headroom → 可整合更多電晶體 / 拉高時脈 → 更強 AI 算力。客戶願為「AI 算力增長」付溢價(≠ 為生產效率付溢價),是 Nvidia 積極導入主因。
  • 成本佔比邏輯:玻璃單片成本雖比現有 ABF 高數倍,但基板僅佔 AI 晶片 BOM 的低個位數(1–5%),而封裝良率損失金額常達基板成本的 5–10 倍;玻璃核心提高良率、降低封裝良率損失,故高單價不阻礙採用。此與本頁前述「BOM 需降至 USD 400/片」的絕對成本門檻為兩種互補視角(絕對降本 vs 相對 BOM 佔比)。
  • 三層 oS 結構與 ABF 規格:玻璃核心夾於兩層 ABF 增層之間(CoPoS 的「oS」);ABF 增層主用味之素 GL107 混 ABF-GCP、測試 24–28 層(2027–2028 AI 晶片主流 ABF 規格)。架構與切割轉移細節見 技術_CoPoS。

玻璃芯基板量產進度全景(JPM SBR 研討會,2026-07-21)

報告_JPM_FCBGA_ABF基板研討會_20260721 引述 SBR Technology 西尾俊彥的獨立訪查,逐廠盤點玻璃芯(Glass Core)量產進度:

廠商 進度 備註
Absolics(SKC 子公司) 目前唯一已具量產設施、進入小量生產階段的廠商 領先其他所有基板廠
Ibiden 仍在開發階段 未公布具體量產時間
Shinko Electric Industries 仍在開發階段 未公布具體量產時間
Unimicron/欣興 仍在開發階段 未公布具體量產時間
Samsung Electro-Mechanics(SEMCO) 已宣布與 Sumitomo Chemical 合建量產廠 規劃 2028 年起量產打樣(prototyping);廠房完工後仍需時間取得客戶認證
Dai Nippon Printing(DNP) 尚未對全面投資做出決策 相對保守

與既有頁「兩大不確定性」交叉印證,非新增衝突

上表逐廠進度與本頁既有「兩大不確定性(野村,2026-05-21)」「商業化時程」表方向一致:西尾俊彥判斷量產基礎設施(含量產廠)仍不足,2030 年前難以量產,與野村、Corning 管理層「大規模採用 2030+」的既有估計互相印證。

JPCA Show 2026 揭露的台積電-Ibiden-Innolux 合作(本頁「NVIDIA / Broadcom 供應鏈確認」節已有相關內容,出自群益 2026-06-22)在本次 JPM 報告中獲得第三方獨立來源佐證:JPM「Our view」段落亦提到 JPCA Show 2026 上台積電將與 Ibiden、Innolux 合作開發用於 CoPoS 的玻璃芯基板,兩份不同券商報告方向一致。

兩代路線與 500 µm 甜蜜點(專家會議 2026-07-22)

TGV 專家會議(講師具近十年孔內金屬化經驗)給出的世代框架與厚度定義:

  • 第一代=玻璃 Carrier(暫時性,最終分離移除):現階段主流應用;CoPoS 第一代型態為 FOPLP,預計 2028 年量產(非 FOPLP 路線則更難)。
  • 第二代=Core Substrate(800–1,100 µm)與 Glass Interposer(500 µm 以下):兩者邊界模糊——台積電口中的 Core Substrate,對封裝 / PCB 業界可能就是 Interposer,定義因觀察角度而異。
  • 500 µm 是技術甜蜜點:機械強度優於 300 µm(300 µm 以下 handling 幾乎不可行)、製程時間優於 800 µm(厚板立體導線每段都花時間,甚至以天計);且 500 µm 級是 Foundry、Package House、PCB 載板、Display 各類廠商都能參與的區間。講師以 Intel EMIB 玻璃基板實測佐證:標稱 800 µm、依比例尺量測實際僅約 600 多 µm——與本頁 NEPCON 2026 段「標稱 800 µm、實測推測 ~625 µm」獨立交叉一致;600–750 µm、AR 接近 10 或略低即可為佳解。
  • 尺寸擴張路徑:工程版 250×250 mm → 量產版 300 mm 級;510×515 mm 挑戰極大(大面積挖孔、設備與均勻度、孔數檢測時間),須先在一定尺寸內拉良率再放大——「良率拉不起來根本無法推廣,良率比利用率重要」(此觀點與力成早期大尺寸玻璃廠投資形成對照)。講師判斷 TGV substrate(core 或 interposer)尺寸會落在 310×310 範圍,600 級難度極高。

專家觀點:Interposer 可能比 Core Substrate 快(與市場共識相反)

多數人認為 Core Substrate 先行;講師持相反看法——大面積 Core Substrate 的供應商(設備 / 材料 vendor)能力是關鍵,若非台積電體系,能取得的 vendor 等級低一級,Core Substrate 反而慢;Interposer(小尺寸、500 µm 以下)可能較快。且台積電定義的 core 對業界即 interposer,兩說可能部分是定義差異。並列觀察。

時程保守派再添一票

講師預估 Glass Interposer 2030–2032 年才可能成熟(自評較市場共識保守),與 JPM SBR 西尾俊彥「2030 年前難量產」、Corning「大規模採用 2030+」同陣營;對照野村 Broadcom 2027F 先行、郭明錤台積電 4Q28–1Q29 目標,時程分歧持續拉大,投資上仍應區分「設備驗證先行」與「載板放量遞延」。

TGV 製程(已併入 TGV 頁)

→ TGV 成孔路線比較、LADY 製程、23 道完整製程與金屬化兩路線詳見 技術_TGV(製程材料台廠對應圖已一併移入)。

Innolux TGV 驗證現況(MS 2026-06-22)

3481_群創(市) 目前正向 major foundry(推測為台積電)供應含 TGV 的玻璃芯基板,用於驗證模擬玻璃芯 ABF 基板的效益,是面板廠跨入玻璃芯基板供應鏈目前最具體的進度揭露。

技術面向 內容
驗證優點 更佳共平面度(coplanarity)、更低 CTE、更高有效彈性模數(effective modulus)、更佳電源完整性(power integrity)
主要瓶頸 TGV 製程良率(yield)是量產的關鍵 gating factor,對群創目前仍有挑戰
導入路線 預計先從 CoWoS 起步,後延伸至 CoPoS
量產時程 meaningful revenue 不早於 2028
競爭格局 多家供應鏈廠商同步瞄準此機會,量產競爭可能加劇

來源:260622_2409_3034_ms_2h-june-panel-px(Morgan Stanley,2026-06-22),信心:中高

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圖說:群創股價 vs. 32" TV Open Cell 面板均價,顯示面板景氣周期對估值的主導性。玻璃芯基板題材貢獻時程(不早於 2028)在當前估值中尚未實質體現。(來源:MS Research,2026-06-22)

面板供應鏈玩家進度總表(MS 2026-07-26)

來源:報告_MS_玻璃先進封裝_20260726(Morgan Stanley,Derrick Yang / Vivi Huang / Andy Meng)。本份的觸發點是藍思科技宣布與 Intel 在玻璃芯基板合作;MS 認為對市場情緒有幫助,但實質營收貢獻仍需時間。

廠商 合作對象 進度 量產時點(MS checks)
藍思科技(Lens Tech,300433.SZ) INTC.US(intel) 宣布合作開發含 TGV 的玻璃核心;MS 認為其可能同時與其他潛在韓系廠商合作 2026 年底前備妥 pilot line;較具意義的量產出貨可能自 2H27 起
3481_群創(市)(MS 原文寫 Innoux,應為 Innolux) 2330_台積電(市) + 4062.JP(ibiden) 玻璃核心基板專案進行中 2H28 或 2029
京東方(BOE,000725.SZ) 中國與北美 fabless 客戶 計畫 2027 年建置產能,順利的話 2028 年量產;企圖心是做完整條玻璃核心 ABF 基板製程 2028
2409_友達(市)(MS 原文標 2049.TW,實際為 2409.TW) — 方向不同:聚焦玻璃用於 LEO 低軌衛星天線模組與 micro LED 光學模組,非玻璃核心基板 尚未聽到具體量產時間表

MS 的技術判斷:

  • 玻璃在先進封裝的多種可能用途中,目前絕大多數投入集中在玻璃核心基板。
  • 面板供應鏈廠商在 TGV 與銅電鍍(copper plating)兩道製程上取得的進展較多——這正是他們既有本業能力可延伸之處。
  • 但門檻不在設備能力,而在製程控制(process control):先進封裝要求的精度與密度遠高於面板業慣常處理的等級。
  • MS 的結論帶條件:若面板廠能持續改善良率,量產階段他們有機會吃下相對大一塊的附加價值。

玻璃的四項結構優勢(MS 2024-10-27 深度報告口徑,本次重申)

①大尺寸帶來成本優勢;②更佳電性表現、訊號損耗更低;③不同材料間的 CTE 失配較小,可緩解翹曲;④機械強度更高,抵抗製造與運作中的變形。

本份報告的兩處代號疑義(已於上表標註,待核對)

MS 原文將 Innolux 拼為「Innoux」,並把 AUO 標為 2049.TW(2049 實際為上銀科技,友達為 2409.TW)。本頁採正確代號並保留原文寫法備查。

技術瓶頸 / 風險

  • 講座口徑量產挑戰(AI 晶片封裝講座,kevin 2026-10-14):玻璃核心載板永久保留在封裝體內作結構與線路核心(不同於 PLP 製程後剝離的暫時玻璃載具),垂直導通需 TGV 成孔與金屬化;挑戰含高深寬比 TGV 成孔無裂紋、薄玻璃易碎搬運、超細線路重布層良率、長期冷熱循環可靠度。相對有機載板:L/S 可達 2µm 級(有機約 10µm 以上)、剛性高抗翹曲、導熱與耐熱較佳,但較重。
  • 玻璃脆性:製程中破裂風險,良率挑戰
  • 微裂紋與檢測(MS,2026-10-26;新光電氣口述):微裂紋與衍生的封裝可靠度為玻璃核心兩大瓶頸;現有 AOI 難偵測玻璃核心微裂紋,多層 ABF 壓合其上後更無法檢測;一家設備商另指高深寬比 TGV 金屬化極具挑戰(該設備商不做銅柱大量轉移)。MS 判斷玻璃核心載板未來 2-3 年不具商業可行性(報告_MS_TPCA2026觀展_20261026)。
  • 裂紋(SeWaRe)與 CTE 取捨(BofA,2026-10-26):玻璃核心翹曲僅有機核心約 1/3、CTE 較低、楊氏模量較高(玻璃 CTE 3~4 ppm/K、70~90 GPa,對照低 CTE 有機核心 5~7 ppm/K、35~37 GPa),但低 CTE 玻璃在切單後出現 SeWaRe(7-2-7)且熱循環 1000 次可靠度測試未通過,中 CTE 為 10-2-10 通過、高 CTE 無 SeWaRe 但翹曲高;裂紋可能在熱循環、搬運、組裝後才出現,更接近終端產品階段而更棘手;AT&S 認為整體供應鏈距量產仍遠;BofA 路線圖:2026 有機低 CTE、2028 有機加早期玻璃核心、2030 年起玻璃核心於大型封裝成為主流(報告_BofA_TPCA2026_20261026;陶瓷核心受限於面板尺寸)。
  • 增層與翹曲(珩石 Jason,2026-10-25;observation,信心中):TGV 過往瓶頸已跨過,現主要在增層(刷膠貼合溢膠或不均勻→疊加烘烤翹曲,每層都要處理);客戶偏好專精廠商分工,過度一站式反而失去競爭力,純代工或純設備較理想(活動_TPCA2026觀展心得_珩石筆記_Jason_20261025;與 技術_TGV 既有展場觀察一致)。
  • TGV 成本:乾蝕刻設備與氣體成本高
  • 大面積均勻性:面板級製程的鑽孔均勻性
  • RDL 剝離 / 脫層(野村 2026-05-21):銅 RDL 與 ABF 介電層因 CTE 不匹配,在熱循環或機械處理後從表面剝落;是目前 Glass Core 量產的主要技術瓶頸之一
  • BOM 成本目標:玻璃芯基板 BOM 成本需降至 USD 400/基板以下方能具競爭力(目前仍高於有機載板)
  • 導入時程:主要 IC 載板廠(Ibiden、Samsung E-M)商業化進度緩慢;Broadcom Switch ASIC 是最早可能採用者(野村:最快 2027F)
  • 採用時程偏長:Corning 2026-05 call memo 指出半導體玻璃基板仍屬早期階段,大規模採用可能落在 2030 年以後;短中期投資主軸不宜過度提前反映玻璃基板營收。
  • 面板廠玻璃封裝貢獻遞延:Morgan Stanley 2026-06-07 TFT-LCD 報告認為玻璃用於先進封裝具長期成本與電性優勢,但供應鏈流程仍在優化,因此 2026-2027 年較難成為面板廠明顯營收貢獻。

兩大不確定性(野村 2026-05-21)

  1. 成本與技術未解:TGV 小量試產仍可收 USD 400-500/片,使整片玻璃芯基板 ASP 可能超過 USD 1,500,顯著高於大尺寸 ABF 約 USD 200;量產至少需降至 USD 400/片才具成本競爭力。技術上,RDL 介電層剝離 / 脫層仍是載板廠瓶頸,玻璃、ABF、銅之間 CTE 不匹配與表面附著力屬於基礎物理問題,不只是工程微調。
  2. EMIB-T 排擠產能優先順序:Intel 對 Ibiden、Unimicron / 欣興、Shinko 等領先基板夥伴承諾強,促使基板廠優先為 技術_EMIB-T 共投擴產;在 ABF 與 EMIB-T 需求強勁下,玻璃芯基板產能投資可能被延後。

玻璃載板六大關鍵製程設備

# 製程 國際主要設備商 臺廠自主化階段 技術瓶頸重點
1 TGV 雷射改質 DISCO(日)、Orbotech(以)、MKS(美)、Corning、Samsung 系統整合與光路優化;雷射源仍仰賴進口 皮秒/飛秒超短脈衝雷射、波長選擇(355/532/1030nm)、能量穩定±1%
2 蝕刻通孔(濕蝕刻) MEC Company(日)、RENA、Manz(德) IC 載板濕製程設備廠持續投入,可從化學配方+整機切入 HF/HNO₃ 酸性 or KOH 鹼性,PTFE/石英耐腐蝕槽體;孔徑±3μm、AR 15:1~20:1
3 AOI 光學檢測 Camtek、Orbotech(以)、SCREEN(日)、Mycronic(美)、Onto Innovation 已成熟,2.5D 檢測延伸;惟透明材料 < 3μm 缺陷 + 內層線路檢測仍待突破 多波段照明、AI 缺陷分類;玻璃透明性致對比不足
4 種子層 PVD 鍍膜 Evatec(瑞士)、Applied Materials(美)、ULVAC(日) ITO/光電面板 PVD 經驗延伸,可導入磁控濺鍍 高真空 < 10⁻⁶ Torr、Ti/Cr 靶材、膜厚控制 < 5%;鍍膜均勻性目標 ≥ 98%
5 電鍍銅填孔 MacDermid Alpha(美)、UYEMURA(日)、MKS Atotech(德) PCB / IC 載板電鍍經驗延伸;填孔模組化開發 AR > 10:1 微孔填銅;多段電流密度、脈衝反轉、添加劑配方;雙面均勻沉積為升級重點
6 研磨(技術_CMP) Applied Materials(美)、DISCO(日)、Okamoto 半導體 CMP 經驗延伸;浮動真空載台、低應力 slurry 厚度 < 100μm 玻璃易破片;TTV < 5μm(目標 3μm);Cu/玻璃硬度差異致選擇性研磨難

自主化現況評估(TPCA 2026-05)

臺灣已具備自主化基礎:AOI 光學檢測、濕蝕刻模組整合、自動化系統、電鍍設備系統、研磨設備系統、精密機構設計、材料反應調控。 仍須仰賴國外:超短脈衝雷射模組、磁控 PVD 靶材模組、高階即時演算法軟體。 通孔孔徑已達 5μm,目標朝 ±3μm 精度與更高速加工提升;Via 真圓度 ≥ 90%、鍍膜均勻性 ≥ 95%(目標 ≥ 98%)。

臺廠六大製程設備商對應(2026-05 memo 補充)

# 製程 臺廠主要設備商 切入策略 / 進度亮點
1 TGV 雷射改質 8027_鈦昇(櫃)、8064_東捷(櫃) 鈦昇已切入 Intel 玻璃載板供應鏈驗證;東捷以面板修補雷射經驗轉攻大尺寸玻璃載板鑽孔
2 蝕刻通孔 6658_聯策(市)、2493_揚博(市)、6405_悅城(市) 聯策主攻 PCB 藥劑+視覺自動化;揚博主攻精密化學蝕刻藥劑;悅城以面板玻璃化學減薄老牌切入
3 AOI 光學檢測 3455_由田(櫃)、3535_晶彩科(市) 由田為國內 AOI 龍頭,玻璃透光特性專用 2D/3D 檢測;晶彩科以面板檢測經驗轉攻 TGV 孔徑/垂直度量測
4 種子層 PVD 鍍膜 3580_友威科(櫃) 真空濺鍍領導;玻璃孔壁銅種子層
5 電鍍銅填孔 3485_敘豐(櫃) 濕製程電鍍自動化本土標竿,2026-05-06 興轉櫃
6 CMP 研磨 5443_均豪精密(櫃) 半導體設備聯盟核心,亞微米級平整度

AOI 段為 TPCA 報告明確點名「台廠具相對優勢」的環節;其他段台廠仍處追趕地位,需突破驗證平台、雷射光源進口依賴、電鍍液配方等核心門檻。 無股號廠商(暉盛/暉盛創、亞智 Manz、上儀、海納光電、誠霸、翔緯光電、豪逸達、波色、富臨、駿光、多米諾)詳見 供應鏈_玻璃芯基板。

NVIDIA / Broadcom 供應鏈確認(2026-07-06)

5.5x reticle SoIC 的 warpage 是玻璃基板被列為解方的直接動機(永豐投顧論壇,程正樺,2026-09-16)

即便維持在技術成熟的 5.5x reticle(NVIDIA Rubin Ultra 最新確認,見 技術_CoWoS),SoIC 雙 die 堆疊的 warpage(翹曲)問題仍很嚴重;玻璃基板是三個候選解方之一,另兩者為 EMIB-like(仍在 RD 階段)與陶瓷基板(時程更遙遠,本頁下方「陶瓷基板為潛在替代」已記)。除 NVIDIA 外,Broadcom 對玻璃基板同樣積極,與下方兩陣營拆解、供應鏈_玻璃芯基板 方向一致,本次為獨立來源佐證。玻璃基本製程確認為:TGV 成孔 → 填金屬 → 上下堆疊 ABF 增層,與本頁既有製程敘述一致。來源:報告_永豐_AI產業趨勢簡報memo_20260916 — 永豐投顧論壇(騰旭投資程正樺),2026-09-16

來源:隨手記_定錨_玻璃核心載板NVIDIA陣營TGV_20260706、web_ABF載板_hackmd定錨產業筆記_20260706

陣營 前段 TGV 後段 ABF 增層
NVIDIA 3481_群創(市) 3037_欣興(市) + Ibiden
Broadcom 3481_群創(市)(推測) 詳見 技術_TGV

玻璃芯基板製程流程圖(2026-07-06 HackMD 驗證圖)

memo_ABF載板_hackmd_260706_圖二_玻璃核心載板流程

圖說:玻璃核心載板製程流程:玻璃基板 → TGV 成孔(雷射改質 + 蝕刻)→ 銅電鍍填孔 → ABF 增層(前段 panel 廠;後段 ABF 廠)。(來源:定錨産業筆記,2026-07-06,© HackMD,版權圖)

ECTC 2026 進展檢核(SemiAnalysis 2026-07-02)

SemiAnalysis 觀察:玻璃光環今年略為黯淡,ECTC 創新論文減少;本屆數據仍支持「製造開發階段」定位而非高量產導入。

  • SeWaRe 側向裂紋仍是未解問題:裂紋自切割後的玻璃邊緣在 RDL 應力下橫向擴展。Georgia Tech 做實驗表徵;Corning 以 FEA/peridynamics 建模發現剛性銅層把裂紋推向玻璃中面、柔性聚合物層可改變裂紋路徑,低 CTE 聚合物 + 適當玻璃選型可降風險
  • STATS ChipPAC 74×74mm 玻璃芯封裝可靠度:無邊緣塗佈(edge coating)時每項測試全數失敗;加邊緣塗佈後全數通過,且翹曲 −33.5%。Build-up pull-back + 邊緣塗佈漸成玻璃芯組裝必要條件
  • Intel 業界首發 510mm×515mm、24 層(10-2-10)玻璃芯 panel:TGV 全銅填孔 + 內嵌 2 個 EMIB 橋 + TGV 間共形成光波導;在既有有機載板產線加工,切單後熱衝擊測試無 SeWaRe
  • Amkor / STATS ChipPAC(OSAT 採用方):較薄玻璃芯 vs 有機參考基板量測到 30–40% 更低基板級翹曲,但組裝缺陷與 TGV 填孔問題顯示製程仍不成熟
EMIB-T HBM4 Challenges Microfluidic Cooling Photonic Interconnects_047

圖說:Intel 510mm×515mm 24 層玻璃芯 panel 實照(斜視角)與 TGV 剖面特寫(銅填孔陣列)。來源:Intel, ECTC 2026 © SemiAnalysis

EMIB-T HBM4 Challenges Microfluidic Cooling Photonic Interconnects_046

圖說:STATS ChipPAC 74×74mm organic vs glass 測試載具規格對照表——玻璃芯 8L(3-2-3)、core 0.6mm、TGV 90µm、總厚 0.92mm vs 有機 14L(6-2-6)、1.81mm。來源:STATS ChipPAC, ECTC 2026 © SemiAnalysis

與定錨(2026-07-06)樂觀敘事的對照

定錨產業筆記描繪 NVIDIA/Broadcom 兩陣營積極導入(見上節),SemiAnalysis 從 ECTC 技術數據給出較保守判讀(SeWaRe 未解、TGV 填孔缺陷、仍屬製造開發期)。兩者時間尺度不同:供應鏈設備下單(2026 確認)與 HVM 良率成熟(2028+)並不矛盾,但投資上需區分「設備商營收先行」與「載板廠玻璃營收遞延」。

商業化時程

時間 里程碑
2026(確認) NVIDIA 陣營:群創(前段 TGV)+ 欣興 + Ibiden(後段 ABF 增層)正式確認。Broadcom 陣營亦已在 2026 年確認。(來源:定錨産業筆記,2026-07-06)
2026-07-16(確認) 台積電 2Q26 法說證實:現階段先進封裝主流仍是 CoWoS,正開發低成本替代方案(含 glass core/glass carrier)並與基板供應商合作;試產線(pilot line)已在建置中,估約需一年才會成熟,屆時可與客戶投入量產(來源:報告_大和_台積電2Q26法說摘要_20260716)
2026-09-16(channel check) 長廣(ABF 壓膜設備龍頭)channel check:玻璃核心基板商業化時點不明,2027/28 年不太可能發生;新一代玻璃核心壓膜設備單價將高於現有高階 ABF 壓膜機,因需額外檢測設備——與本頁既有「2030 年前難量產」共識方向一致,並新增設備成本面觀察(來源:GS,報告_GS_長廣7795_ABF設備拜訪_20260916)
2026(進行中) 群創向 major foundry 供應 Glass Core + TGV,驗證模擬 ABF substrate 效益;TGV 良率為量產 gating factor(MS,2026-06-22)
2027 玻璃載板小量導入高階 AI/HPC 封裝;Broadcom Switch ASIC 最早採用者(野村)
2026-2027 MS 認為玻璃先進封裝仍在流程優化期,對面板廠獲利貢獻有限
2028(最早) Innolux 玻璃芯基板 meaningful revenue 不早於 2028(MS,2026-06-22);路線 CoWoS 起步→延伸 CoPoS
2028 Chip-Last FOPLP + 玻璃載板進入實質量產期
2027–2030 群益上海(2026-10-20):最樂觀情景 2027–2028 為首批客戶導入觀察窗口、2028–2030 進入收入增長;整體良率須至少提升至 70% 才可能如期;CoPoS(玻璃中介+玻璃基板)2028H2–2029 量產;三星電機+住友化學世宗廠 2027 下半年量產(見下方 [!warning])
2029 3189_景碩(市) TPCA(富邦,2026-10-21):Glass/Ceramic Core 兩路線皆至 2029 年方能量產,瓶頸在鑽孔鍍銅與微裂紋檢測
2030 玻璃載板於 IC 載板市場市占率 10–15%;3189_景碩(市) IR(2026-07-22)亦表示 Glass Core(Core layer 玻璃化)預計在 2030 年發生,先後順序上晚於 CoPoS carrier 應用,較該公司 5 月法說之 2028-2029 估計更保守,詳見 3189_景碩(市) 衝突提案
2030+ Corning 管理層認為半導體玻璃基板可能進入大規模採用期
2030–2032 專家會議(2026-07-22):Glass Interposer 屆時才可能成熟(自評較市場共識保守);第一代 CoPoS(FOPLP 型態)2028 量產、陶瓷替代路線再晚 1–2 年

四大應用場景、良率分解與中國供應鏈

來源:報告_群益上海_玻璃材料AI產業地基_20261020(群益金鼎證券上海,朱吉翔/何利超,「玻璃材料:AI 産業的下一代地基」;中國大陸賣方視角,國產鏈推薦與供應關係推演成分高,使用時需分辨)。

核心論點:封裝尺寸超過約 8 倍光罩後,有機基板與矽的 CTE 失配是物理級硬約束;Rubin Ultra 原規劃 4-Die+16×HBM4E(CoWoS-L)因基板翹曲、供應鏈口徑測試良率不足 35% 而取消,改 2-Die+8×HBM4E(2027 量產,SemiAnalysis 確認取消),群益據此論證玻璃基板將取代有機基板(analyst,中信心;取消與良率數字為群益轉述)。三種架構:CoWoS(ABF 保留,量產主力)、CoWoP(取消 ABF 與 BGA、強化 PCB,驗證探索中)、CoPoS(玻璃中介+玻璃基板,2028H2–2029 量產)。

報告_群益上海_玻璃材料AI產業地基_20261020_p3

圖說:三種封裝架構對照:CoWoS(量產主力,ABF 基板保留)、CoWoP(驗證探索中,取消 ABF+BGA)、CoPoS(2028H2–2029 量產,玻璃中介+玻璃基板換料)(群益金鼎證券上海,2026-10)

材料對比(群益):玻璃芯 CTE 3–5 ppm/℃(ABF 12–17、矽中介層 2.6–3)、Df@10GHz 0.001–0.002(約 ABF 的 1/3)、RDL 理論 <2μm(508mm 面板已實現 8/8μm)、具透光性可集成光波導(CPO);單位成本目前高 30–50%、未來可降 20–30%;量產良率玻璃 <70% 爬坡中、ABF 90%+。

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圖說:有機 ABF/玻璃芯基板/矽中介層對比表(CTE、Df、RDL 線寬、透光性、成本、良率、供應鏈成熟度、最優場景)(群益金鼎證券上海,2026-10)

四大應用形態與進度(群益口徑):

形態 含 TGV 進度 難度
玻璃臨時載板 Carrier 否 唯一已量產 低
玻璃中介層 Interposer 是 未量產;台積電 CoPoS 2028 年量產、三星 2026 原型/2028 導入、英特爾試驗性導入 高
玻璃芯基板 Core Substrate 是 三巨頭量產窗口集中 2027–2028;SKC/Absolics 向 AMD/亞馬遜送樣認證;三星電機+住友化學 2027 下半年量產;英特爾 2030 全面商用;台積電 0.8mm 玻璃芯基板已驗證、擬先導入現有 CoWoS 高
GlassBridge(CPO 光互連、FAU) — Corning 6/24 發布原型、聯合頭部廠商工程化驗證,順利 2028 年開始量產(見 技術_GlassBridge) 中高
報告_群益上海_玻璃材料AI產業地基_20261020_p9

圖說:傳統 ABF 基板(ABF 增層/BT 樹脂芯板 CTE≈15/ABF 增層)對照玻璃芯基板(玻璃芯 CTE≈3 匹配矽,夾於上下 ABF 增層)剖面示意;只換芯材、不改架構,可先導入現有 CoWoS 產線(群益金鼎證券上海,2026-10)

難點與良率分解(群益自行測算,estimate,中低信心):工藝鏈為來料→TGV 成孔→TGV 金屬化→增層×N 層→臨時鍵合→薄化研磨→終檢修復,任一後段失效即損失累計投入。基準分配下整體良率約 70.2%(來料 99.5→成孔 98→金屬化 92.6→增層×20 層 75.8→鍵合 73.1→薄化 70.9→終檢 70.2);敏感性以增層單層最大(99.0%→98.0% 之類 1pct 降幅使整體拖累約 12.9pct),其餘節點各約 0.7–0.8pct;提良率優先級:增層單層>金屬化>鍵合>成孔。銅填孔(空洞、厚度均勻性、沉積應力)為難度最高環節。

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圖說:玻璃基板製造流程與六大環節難點表:TGV 成孔→金屬化→增層×N 層(每層循環)→臨時鍵合→薄化研磨→終檢修復;銅填孔難度 5 星最高、增層與 RDL 4 星(群益金鼎證券上海,2026-10;資料來源 Corning、群益)

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圖說:累計良率折線圖(來料 99.5→終檢 70.2)與各節點良率降 1pct 的整體良率敏感性表,增層布線單層 99.0% 時整體 57.3%(群益金鼎證券上海測算,2026-10)

廠商時程對照(群益 p14):台積電 CoPoS 2026 建成 310×310mm 試產線、2027 試產/小批量、2028H2–2029 量產;2026-06 發布「CoWoS 玻璃基板開發計畫」與 Ibiden、群創聯合驗證 0.8mm 玻璃核心基板(5×Reticle CoW,85×110mm),玻璃基板全面量產推估 2030 年後。英特爾 2026-01 NEPCON 展出 78×77mm 樣品(10-2-10 結構、22 層),2027 年發布玻璃芯基板 CPU、2030 年全面商用。三星電機+住友化學世宗廠試產線運行、2027 下半年量產、已向蘋果送樣。英偉達依托台積電 CoPoS、玻璃芯基板評估中。

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圖說:台積電、英特爾、三星、英偉達、華為在玻璃中介層與玻璃芯基板的進度對照表(群益金鼎證券上海,2026-10)

中國供應鏈(群益):已披露進度包括沃格光電武漢產線綜合良率 90%+(8 層全玻璃載板,國內唯一穩定小批量供貨)、京東方 20 層/>100×100mm 樣品送客戶驗證(目標 2027 年底爬坡量產)、藍思科技 Intel 合作與 3 萬㎡廠房 2026 年底投產、凱盛科技 8 吋 TGV 中試(暫無成熟量產方案);設備端帝爾激光(TGV 雷射改質)批量交付京東方與沃格、台灣客戶下二批複購。群益稱產線建設設備投資占比逾 70%。完整分環節清單見 供應鏈_玻璃芯基板;華為鏈部分群益自承除沃格(CPO 送樣)、京東方(送測)外為「能力映射推演」。

時程差異:三星電機玻璃芯量產年份

  • 群益上海(2026-10-20):三星電機+住友化學世宗廠 2027 下半年量產(含向蘋果送樣)。
  • JPM/SBR 西尾俊彥(2026-07-21,見上方「玻璃芯基板量產進度全景」):SEMCO 規劃 2028 年起量產打樣,廠房完工後仍需客戶認證。
  • 兩者日期相近、口徑不同(「量產」vs「量產打樣」),無法由日期裁定,並列待確認。另群益「2027–2028 導入窗口」亦為「最樂觀情景」,較本頁「2030 年前難量產」共識(野村、JPM)樂觀,台積電 0.8mm 玻璃芯基板「全面量產推估 2030 年後」與 CoPoS 2028H2–2029 為不同範圍,非矛盾。

應用場景

  • AI 加速器封裝:高功耗 GPU/NPU 的大尺寸封裝基板
  • HPC 應用:低損耗高頻訊號傳輸
  • Switch ASIC:Broadcom 被野村點名為 Glass Core Substrate 最早商業採用者(Switch ASIC 封裝),最快 2027F 量產;是全球玻璃芯基板進入量產的關鍵觸媒
  • 記憶體封裝:取代部分 ABF 載板

台灣相關廠商

材料端

環節 廠商 角色
玻璃原材料 / 特殊玻璃 GLW.US(corning) 具熔融玻璃製程與核心材料技術,為長期玻璃基板機會卡位
TGV 乾蝕刻氣體 4768_晶呈科技(櫃) LADY 製程,深寬比 10:1
光阻/正型 PSPI 1711_永光(市) TGV 後絕緣材料
光阻/正型 PSPI 1717_長興(市) PSPI/光阻
負型 PSPI 顯影 4755_三福化(市) 顯影材料
清洗劑 1773_勝一(市) TGV 製程清洗

設備端

環節 廠商 角色
TGV 雷射改質 8027_鈦昇(櫃) Intel 玻璃載板驗證,每秒數千孔
TGV 雷射改質 8064_東捷(櫃) 大尺寸玻璃載板鑽孔 + 自動化搬運
蝕刻通孔 6658_聯策(市) PCB 藥劑 + 視覺自動化
蝕刻通孔 2493_揚博(市) 精密化學蝕刻藥劑與設備
蝕刻通孔 6405_悅城(市) 玻璃化學減薄老牌大廠
AOI 光學檢測 3455_由田(櫃) 國內 AOI 龍頭
AOI 光學檢測 3535_晶彩科(市) 面板檢測轉攻 TGV 量測
PVD 種子層 3580_友威科(櫃) 真空濺鍍領導
電鍍銅 3485_敘豐(櫃) 濕製程電鍍自動化標竿
技術_CMP 研磨 5443_均豪精密(櫃) 半導體設備聯盟核心

相關技術

  • 技術_TGV(玻璃芯基板的垂直導通孔與核心製程)
  • 技術_EMIB-T(Intel 先進封裝路線,可能排擠基板廠玻璃芯基板產能優先順序)
  • 技術_TSV(矽版通孔技術,Glass 版為 TGV)
  • 技術_RDL(玻璃芯基板上的 RDL 製程)
  • 技術_PSPI(TGV 後絕緣材料)
  • PVD(TGV / RDL 種子層)
  • 技術_CMP(玻璃載板平坦化)

2026-06-07 面板廠投資時程提醒

260607_TFT-LCD_ms_1h-june-panel-px 將玻璃封裝視為面板廠潛在新業務,但明確提醒 meaningful contribution 需要時間。其理由是供應鏈仍在優化製程流程,且面板廠不是唯一想切入先進封裝玻璃市場的參與者。對 3481_群創(市) 這類面板廠,玻璃 / FOPLP 題材應與傳統 TFT-LCD 景氣拆開看:本業 3Q26 起可能面臨 TV 面板價格下行,而玻璃封裝尚不足以在 2026-2027 年抵銷本業週期。

玻璃四種封裝角色(元大講座 2026-07)

元大講座(張佑祥)把玻璃在先進封裝的角色細分為四類,成熟度與價值遞增:

角色 功能 定位
玻璃(晶圓)承載板 Glass Carrier 薄晶圓加工(背面 / TSV 顯露 / 混合鍵合)的臨時支撐 已用於 HBM 製造與 HBM4 混合鍵合,與 TCB 競爭;透明利雷射脫鍵、可重複使用;技術最成熟
玻璃面板載體 Glass Panel Carrier 重組面板 / 大型封裝的面板式處理(FOPLP),含模具位移控制 剛性強、翹曲低,光學路徑對準;可轉移到其他製程提高產量
玻璃核心基板 Glass Core Substrate 永久取代有機 IC 載板核心,1/1 µm 精細 RDL、高密度 P/G 垂直佈線 CTE 可依成分(硼矽 / 鋁矽)定制,具嵌入 IC 基板與 CPO 潛力
玻璃中介層 Glass Interposer 高電阻率、低損耗,內設 TGV + 1 µm 級 RDL 多為被動式;連接 AI/HPC 與 2.5D/3D AP 及 CPO 的新橋樑;深寬比需求最高,量產最晚

玻璃核心材料對比(元大講座 2026-07)

講座列出主流先進封裝 TGV 玻璃 / 材料規格,關鍵在 CTE(越接近矽 2.6 / 有機 PCB 越平衡整體應力)、低 Df(高頻)、加工性:

品牌 型號 CTE (ppm/K) 楊氏係數 (GPa) Dk@10GHz Df@10GHz κ (W/mK) 特性 / 應用
Corning EXG SG 3.4 3.4 74.1 ~5.2 ~0.003 ~1.0 CTE 與 Si 一致,抗多晶粒(HBM/AI 加速器)高溫翹曲
Corning HPG/SG 8.3 8.3 77.0 ~5.8 ~0.004 ~1.0 PLP 用,CTE 介於矽與有機 PCB 之間平衡應力
Corning HPFS 7980(高純熔融石英) 0.52 72.7 3.7 <0.0001 1.38 火焰水解合成石英,近零 CTE,光罩 / 高頻 RF / 矽光子 TGV 頂級載體
AGC AN 100 3.8 77.0 ~6.1 ~0.006 ~1.1 無鹼環保玻璃,高平整 / 高模量 / 耐高溫,高密度封裝玻璃核心
AGC AQ Series 0.5 73.0 ~3.8 <0.0001 ~1.38 高純 SiO₂,超低 CTE / 超低介電損耗,矽光子 CPO / 高頻 RF
Schott BOROFLOAT 33 3.3 64.0(最好加工) ~4.6 ~0.004 1.2 高硼矽,化學穩定 / 耐熱衝擊,感測器 / MEMS WLCSP / TGV 實驗
Schott AF 32 eco 3.2 74.8 ~5.1 ~0.005 1.16 超低 CTE,可微米級超薄,直接作 2.5D/3D 玻璃中介層
Wolfspeed/Coherent 4H-SiC 單晶碳化矽 4 460(最難加工) 9.7(致命缺點) ~0.005 370-490(優點) 極高導熱 / 模量,Power Module 用;蝕孔與 CVD 介電成本為取代 Si/玻璃的關卡

玻璃核心基板厚度佔 IC 載板總厚約 60%(目前 500-1500 µm,業界續減薄),玻璃芯最大基板尺寸約 240×240 mm²;肖特(Schott)BF33 為浮法硼矽代表,康寧、AGC、Schott 為原料玻璃切入者。 專家會議(2026-07-22)補充:商用合適型號 Corning 佔三款、SCHOTT 兩款、HOYA 與 AGC 亦有;共通弱點為熱導率偏低(散熱是 3D 封裝可靠性驗證最大挑戰),唯 SiC 類材料導熱佳——講師認為 SiC 更可能取代 EMIB 中的矽橋(HBM–SoC 互連、訊號量大需散熱)而非整片板材,可能成為下一代 EMIB-T 的變形,前提是解決邊緣加工。 陶瓷基板為潛在替代:京瓷、日本電氣硝子(NEG)已投入特殊陶瓷取代玻璃研究(另有台灣載板廠對 TGV 沒興趣、改押陶瓷);優點是避開玻璃難加工,瓶頸在大尺寸燒製,講師估時程比玻璃路線再晚 1–2 年。陶瓷通孔技術見 技術_TCV。

增層材料與平衡膜(元大講座 2026-07)

玻璃核心兩側沿用有機 IC 載板的 ABF + RDL 對稱增層(每層介電約 5-15 µm);味之素 ABF 引領,關鍵要求為與玻璃良好附著、Tg ≥ 200°C、低 Df/Dk。ABF 系列規格:

ABF GX GX-T GZ GL
CTE (ppm/K) 39 23 20 20
Tg (°C) 153 156 176 153
Dk 3.2 3.4 3.3 3.3
Df 0.018 0.014 0.0074 0.0044

味之素以奈米填料新配方(ABF GL / GX 系列)提升精細 L/S 圖案化與對玻璃附著性;挑戰味之素領先地位的新進者包括晶化科技、積水化學、LG 化學、住友電木(Sumitomo Bakelite)與新創 Thintronics。ABF 材料規格不斷改變,某種程度放慢了玻璃核心基板商業化進程。 抗翹曲平衡膜(Balance Film)是 PLP / CoPoS 的暫時性抗翹曲護航材料(Low-CTE PI / Standard PI / PEN / LCP / PEEK),與永久介電 PSPI 分工——詳見 平衡膜。

增層實務難點(珩石 Jason,2026-10-25)

台積電派為玻璃核心上下皆 ABF,新光電氣、DNP 為 ABF 加最上層 PI 的混合增層;兩者共通難題是 ABF 壓合溢膠造成應力不均、每層需雷射除膠加電漿清洗,PI 則有 slit & spin 邊緣堆積與 CTE 翹曲。詳見 技術_TGV;來源 活動_TGV製程推進新難點_珩石筆記_Jason_20261025。

玻璃裂痕類型與抑制(元大講座 2026-07)

玻璃脆性 + 玻璃 / 附著層 / 晶種 / 銅 / 介電多材料 CTE 差異,在疊層 / 熱循環 / 切割下產生熱機械應力致裂:

裂紋類型 成因
徑向裂縫 Radial 加熱時過孔膨脹 → 玻璃內拉伸環向應力
環向裂縫 Circumferential 冷卻時過孔收縮 → 玻璃內拉伸徑向應力
SeWaRe 失效 源自切割邊緣缺陷的內聚裂紋,機械切割後不久出現、可貫穿玻璃核心
垂直裂紋 Vertical 熱機械應力作用下

專家會議(2026-07-22)補充裂因:崩孔、CMP 中水分滲入微裂縫(TCT 升降溫時蒸發、壓力升高致破裂)、介面附著問題;並引 群創 長期研究(多篇論文):裂紋主要出現於 C4 凸塊而非 micro bump——玻璃熱穩定性佳使 micro bump 問題不大,C4 凸塊在製程中產生 microcrack 才是較大問題。CTE 參考值:玻璃 ~3.9(一般 3.4–3.7)、Si ~2.6、Cu ~16(銅是最大失配源)。

抑制手段:更薄增層(降裂紋擴展能量)、CO₂ 雷射熱預 / 後處理修復缺陷、切割後裸玻璃邊緣塗佈(結構支撐 + 防潮 + 施壓應力)、增層膜自切割邊緣回縮(Build-up film pull-back,降自由邊緣應力)。此與既有 SemiAnalysis ECTC 2026 觀察(邊緣塗佈使 STATS ChipPAC 全數通過、翹曲 −33.5%)一致。

玻璃核心基板發展路線圖(元大講座 2026-07)

參數 2025/2026 2027 2028 2029 2030+
增層數 10 12/14 16 18 —
TGV AR(金屬化) 1:5 1:8 1:10 >1:10 —
基板大小 (mm) 120-150 150-180 180-200 >200 —
線寬 / 線距 L/S (µm) 5/5 <5/5 — — 2/2 → <2/2(2030 後 HVM)

GCS 定位補完高階有機 IC 基板不足(現高階有機已達 26 層);生態系採穩健步調朝 1:5 AR 前進(AR 增則金屬化填充問題指數上升),先以 120 mm 級切入再向「更大 / 更小」雙向發展。DNP 已展示玻璃上 1/1 µm L/S,但整體平均能力仍在 5/5 µm。

Intel EMIB 玻璃核心基板(NEPCON 2026)

元大講座引 2026 年日本 NEPCON 展會 Intel 展示的高性能玻璃核心基板(有別於既有 ECTC 2026 揭露的 510×515mm 24 層 panel):

  • 基板尺寸 78×77 mm²(矽 reticle 的 2 倍)、上下各 10 層 RDL(ABF 增層)、內嵌 2 個 EMIB
  • 玻璃無微裂紋(No SeWaRe)
  • TGV:孔徑 75 µm、孔深(板厚)標稱 800 µm(實測推測僅 ~625 µm)、AR 標稱 10.6(推測實際 8.3)、μbump pitch 45 µm

SEMICON Taiwan 2026 展場紀錄(華南投顧,2026-09-03)

TGV 面板實測規格(AUO/Corning,510×515mm、100µm 孔徑、20:1 深寬比、840,000+ 孔、0 缺陷)已移入 技術_TGV,本節只記玻璃芯基板架構與圓轉方經濟性觀察。

工研院(ITRI)圓轉方經濟性比較:現場展示圓形晶圓與方形面板的實體樣品比較——12 吋圓形晶圓只能切出 4 片完整晶片,而 310×310mm 方形面板可切出 9 片相同尺寸晶片,凸顯面板級(panel-level)製造在晶片利用率與單位成本上的優勢,是玻璃基板/面板級封裝相對晶圓級製造的核心經濟論點之一。

AGC 次世代先進封裝架構:展示結合玻璃核心(Glass Core)、玻璃中介層(Glass Interposer)、盲腔(Blind Cavity)、xPU、HBM、PIC 及高分子光波導(Polymer Optical Waveguide)的立體剖面模型,並以 Ferrule/Bridge/PCB 呈現由玻璃基板向下整合到 PCB 的完整堆疊,具體呈現光電共封裝(optical co-packaging)與玻璃基板結合的架構願景。AGC 另展出兩片實體樣品:具金屬化製程的 TGV 玻璃基板,以及具盲腔結構的玻璃樣品,分別對應「填孔導電」與「精密局部挖空」兩種玻璃微加工能力。

LG Chem「Advanced Package」展區:左側模型標示「Solution for AI Semiconductor Packaging」(以 CCL 為核心的疊層模型),右側模型標示「Solution for Next Generation Substrate」(Glass Interposer Solution 與 Glass Core Solution 疊層模型),顯示韓系材料廠同步布局玻璃中介層與玻璃核心兩種形態。

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圖說:工研院(ITRI)展示櫃,內含 3×3 排列的彩虹干涉色玻璃方形樣品、一片暗紅色圓形樣品,以及一片印有 4 個黑色矩形區塊的銅色方形樣品,呈現圓形晶圓與方形面板的形式比較。(來源:研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄_20260903,華南投顧研究部,2026-09-03)

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圖說:AGC 展板「Next Generation Advanced Package with Glass Substrates and Optical Waveguide」立體剖面模型,由左至右標示 Glass Core(含銅柱)、Glass Interposer、Blind Cavity、xPU、HBM、PIC、Polymer Optical Waveguide、Ferrule、Bridge,最底層為 PCB。(來源:研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄_20260903,華南投顧研究部,2026-09-03)

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圖說:AGC 展示牌「TGV Glass Substrate for Advanced Packaging (with metallization)」(左,半透明白色方片實樣)與「Glass Substrate for Advanced Packaging (with Blind Cavity)」(右,透明玻璃片上可見金屬化矩形孔陣列圖案)。(來源:研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄_20260903,華南投顧研究部,2026-09-03)

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圖說:LG Chem「Advanced Package」展區看板,左側模型「Solution for AI Semiconductor Packaging」(CCL 疊層模型),右側模型「Solution for Next Generation Substrate」(Glass Interposer Solution/Glass Core Solution 疊層模型)。(來源:研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄_20260903,華南投顧研究部,2026-09-03)

與 研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄B_20260903 為同一原始文件

2026-09-05 ingest 逐字比對確認:data_base/Raw_data/報告/研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄B_20260903.md 的表格原文(TGV Panel/Glass Core Panel/圓轉方比較/AGC 架構/AGC TGV 樣品/LG Chem)與本節既有引用的 研究_華南投顧SEMICON2026展場紀錄_20260903 完全相同,應為同一份 PDF 誤存兩個 Raw_data 子目錄。上方四張圖已完整對應 B 檔案第 3-6 項展品(工研院圓轉方、AGC 架構、AGC TGV/盲腔樣品、LG Chem),故不重複嵌入 B 的對應圖檔;本頁視為已涵蓋 B 檔案全部內容。

玻璃封裝定義釐清 + 銲點可靠度反直覺結果(IEEE EPS 講座,John H. Lau,2026-09-24)

來源:報告_IEEE_EPS_JohnLau玻璃封裝與可靠度_20260924(IEEE Santa Clara Valley EPS Chapter Distinguished Lecture「Glass Packaging and Its Reliability」,講者 John H. Lau,Unimicron/欣興)。學術講座非券商報告,內容為講者研究團隊自建 FEA 模型結果,非量產實測數據,信心中高。

定義釐清:玻璃暫時載板 ≠ 玻璃封裝

講者明確澄清一個常見誤用:FOWLP/FOPLP 若只把玻璃當「暫時載板」(製程結束即分離移除),不算玻璃封裝——「玻璃封裝」的定義是玻璃(基板或中介層)本身成為封裝結構的一部分並留在最終產品中。這點對解讀「XX 廠導入玻璃載板」類新聞時的意義判讀重要:玻璃暫時載板(Glass Carrier,本頁「玻璃四種封裝角色」表已列為最成熟一類)與玻璃核心基板/玻璃中介層(真正的玻璃封裝)是不同等級的技術承諾,前者不代表該廠已切入玻璃核心基板供應鏈。

銲點可靠度:玻璃芯是否較佳,取決於有無底部填膠(underfill)保護

講者團隊以有限元素分析(FEA)比較同一結構下,玻璃芯基板 vs 有機芯基板對兩種銲點的熱循環(-40°C ↔ 85°C,5 次循環)累積等效非彈性應變(accumulated equivalent inelastic strain)影響,結果方向相反:

銲點位置 保護狀態 有機芯基板 玻璃芯基板 玻璃芯 vs 有機芯
Corner µbump(晶片-基板) 有 underfill 保護 9.12%/cycle 4.43%/cycle 玻璃芯較佳(應變減半以上)
Corner C4/BGA 銲點(基板-PCB) 無 underfill 保護 8.43%/cycle 19.0%/cycle 玻璃芯較差(應變超過 2 倍)

反直覺結論:玻璃芯不是全面優於有機芯

業界敘事常直接假設「玻璃芯 CTE 更接近矽 → 全面降低應力 → 可靠度更好」,但本結果顯示決定因素是有無 underfill 保護,不是玻璃 vs 有機本身。玻璃芯基板變薄能改善晶片側(有 underfill)的可靠度,但因玻璃 CTE 遠低於 PCB(玻璃 4.8~10 vs PCB 18~70 ×10⁻⁶/°C),基板與 PCB 之間的 CTE 失配反而被放大,使無 underfill 保護的 PCB 側銲點(C4/BGA)風險上升。

講者建議:玻璃芯 CTE 應盡量貼近 PCB(建議約 10×10⁻⁶/°C),而非貼近矽晶片(2.8×10⁻⁶/°C)。補充驗證:同一模型下比較玻璃 CTE=4.8 vs CTE=10 兩種選材,corner solder joint 應變分別為 16%/cycle 與 8%/cycle——CTE 越接近 PCB,該銲點應變越低,與上述建議方向一致。

報告_IEEE_EPS_JohnLau玻璃封裝與可靠度_20260924_023

圖說:Organic-core substrate(左)vs Glass-core substrate(右)2D 結構剖面對比:CHIP/HBM/CHIPLET 經 C4 bump 或 µbump + underfill 接至基板,基板芯材分別為有機(含 PTH)與玻璃(含 TGV),上下皆為 ABF/PID RDL,再經 solder ball 接至 PCB。(來源:報告_IEEE_EPS_JohnLau玻璃封裝與可靠度_20260924,IEEE EPS 講座,2026-09-24)

報告_IEEE_EPS_JohnLau玻璃封裝與可靠度_20260924_050

圖說:Corner µbump(有 underfill 保護)累積等效非彈性應變時間歷程圖:玻璃芯基板 4.43%/cycle 明顯低於有機芯基板 9.12%/cycle。(來源同上)

報告_IEEE_EPS_JohnLau玻璃封裝與可靠度_20260924_051

圖說:C4 corner solder joint(PCB 側、無 underfill 保護)累積等效非彈性應變時間歷程圖:玻璃芯基板 19%/cycle 反而高於有機芯基板 8.43%/cycle。(來源同上)

電漿表面粗化與面板尺寸(暉盛法人拜訪,2026-10-25)

  • 玻璃芯基板在 seed layer 前的表面粗化使用電漿蝕刻,目的是提升後續金屬層附著(設備商 7730_暉盛(創) 說法,fact,高信心)
  • 尺寸方面,面板廠群創為 510×515 repeat order、日月光同為 510×515;設備商觀察整體玻璃以 510 尺寸推進較快
  • 來源:研究_暉盛7730_法人拜訪速記_20261025

供應鏈

→ 供應鏈_玻璃芯基板 → 供應鏈_半導體製程設備

圖解

報告_元大_玻璃基板技術進展與應用_20260721_082

圖說:封裝基板演進四格剖面圖:(a) 有機芯基板 2D →(b) 玻璃芯基板 2D →(c) 玻璃芯中介層 2.5D →(d) 玻璃芯 3D → 3.5D IC 整合(Cu-Cu 混合鍵合、TSV-interposer);以玻璃芯 / TGV+RDL 取代矽中介層與有機載板,降低 RC time delay。(來源:報告_元大_玻璃基板技術進展與應用_20260721,元大證券講座,2026-07)

報告_元大_玻璃基板技術進展與應用_20260721_086

圖說:Intel 玻璃核心基板(NEPCON 2026)——上為 TGV 陣列 SEM 剖面(附 75 µm 比例尺)、左下封裝實品照、右下 TGV 剖面微觀照;78×77 mm² 基板、上下各 10 層 RDL、內嵌 2 個 EMIB、No SeWaRe。(來源:報告_元大_玻璃基板技術進展與應用_20260721,元大證券講座,2026-07)

260521_nmr_semi-renaissance_085

圖說:野村估算玻璃芯基板 BOM 成本與 ABF 對比;試產 TGV 製程成本仍高,使整片玻璃芯基板成本顯著高於大尺寸 ABF,量產需大幅降本。

2026年台灣半導體特化與耗材展望_福邦投顧研究部202603_029

圖說:TGV 三大應用規格表:轉移玻璃/玻璃芯基板/玻璃中介層,CTE 係數、孔徑、深寬比比較,主要玻璃供應商(AGC、SCHOTT、Corning)。

2026年台灣半導體特化與耗材展望_福邦投顧研究部202603_030

圖說:TGV + Glass Core Substrate 製程流程圖(23 道製程):雷射改質→成孔→鍍銅→RDL 佈線。

2026年台灣半導體特化與耗材展望_福邦投顧研究部202603_031

圖說:玻璃芯基板(Glass Core)vs 有機載板規格比較表:CTE(3–9 ppm/°C vs 12–20 ppm/°C)、平整度、L/S 精細度差異,以及台灣相關供應鏈(蝕刻材料:晶呈科技;ABF:晶化科技;IC載板:南電、欣興)。

MS:先進封裝的玻璃機會「已反映在面板股價中」(2026-09-08,2026-09-21 更新)

MS 在 9 月上旬 TFT-LCD 面板報價報告中,對玻璃於先進封裝的機會給出一個與市場情緒相反的判讀:

「先進封裝的玻璃機會似乎已經反映在價格裡,商業化時程與競爭風險值得持續觀察。」

具體評價依據(2026-09-08):台系面板廠友達(2409.TW)本淨比 1.5x、群創(3481.TW)1.7x,MS 認為兩者評價已內含部分玻璃於先進封裝的期待,因此風險報酬比不再具吸引力。

2026-09-21 更新:立場不變,友達估值續升至與群創同水位

MS 最新一期報告(報告_MS_面板報價9月下旬_20260921,2026-09-21)重申同一判讀:友達與群創本淨比雙雙回升至 1.7x(友達自 9/8 之 1.5x 上升,群創與 9/8 持平),玻璃先進封裝的機會「已反映在價格裡」的結論不變。同份報告新增背景:中國面板廠已自 9/10 月起通知客戶調漲報價,以緩解驅動 IC、玻璃基板、PCB 等成本上升的毛利壓力,但 MS 認為品牌客戶議價恐拖延漲價落地時點——顯示面板報價環境正從單純「持平」轉向廠商主動嘗試調漲的訊號,值得後續追蹤是否成立。

同份報告的面板報價判讀(作為背景): - 9 月電視面板報價全數持平 MoM(32"/43"/55"/65"/75" 主流尺寸),符合 MS 預期;季節性回補庫存加上供給端紀律性控產,可望使電視面板價格在未來數月維持穩定 - IT 面板(監視器、筆電)9 月亦持平,且未來數季預期大致持平;兩者在 2H26 均因先前提前拉貨而面臨需求趨緩

為何記在這裡

這是目前庫內少數對玻璃基板題材給出評價面反向意見的來源。與供應鏈端普遍樂觀的技術進度敘述並列,可作為判讀「技術可行性」與「股價已反映多少」兩件事分開看的參考。

來源:報告_MS_面板報價9月上旬_20260908、報告_MS_面板報價9月下旬_20260921

TGV 與表面裂紋檢測:供應商與技術分工(2026-09-09 產業研究)

核心問題:TGV 孔徑約 30~80µm,比人類頭髮細好幾倍,且成千上萬個銅柱填完銅後光學看不穿。產業以「雷射光學斷層掃描」與「高解析 X-ray CT」兩大技術為主軸攔截裂紋。

公司 核心技術 切入的製程位置與能力
宜特(iST) 可靠度實驗 RA + 亮點定位 FA + 高解析 EBSD/3D FIB 非產線機台。以 HAST 加速老化誘發缺陷,再用 Thermal EMMI、OBIRCH 定位漏電,EBSD 分析熱失配。終極真因判定:線上設備抓不到的隱性裂紋由其非破壞 3D X-Ray 找填孔空洞,並以 FIB/CP 精準切片直接觀測 TGV 與銅界面的微應力裂紋與剝離
蔚華科(Spirox) 非線性光學斷層掃描 產線自研 SP8000G。特殊波長非線性光學免切片直接穿透玻璃做 3D 立體結構重建,可透視雷射改質光斑、3D 蝕刻孔腰身、孔壁粗糙度,精準抓出鍍銅孔壁的玻璃微裂紋
晶彩科(FAVITE) 大面積高速 AOI + 2D/3D 光學量測 承襲 LCD/OLED 的大尺寸玻璃機構與光學處理優勢,針對 FOPLP 推出 TGV 自動高速檢量測機。不翻面即可同時完成正反面檢測,量測孔徑、真圓度、傾角與孔位
倍利科(V5 Tech) AI 智慧光學影像檢測 + AXI(X 光斷層) V5P310 Pro Glass 玻璃 AXI 與 V5300 Macro AOI。金屬化後切入——傳統光學看不穿填銅,以 3D X-Ray 專門檢查 TGV 內部填銅是否產生空洞、斷線或內部應力裂紋
8064_東捷(櫃)(Contrel) 光彈檢測(Photoelasticity) + 超快雷射微裂紋控制 與工研院、3481_群創(市) 三方技術合作。除自研 TGV 雷射鑽孔,以光彈檢測觀測內部殘留應力,專門檢測雷射加工及電鍍填銅後因熱膨脹差產生的熱應力微裂紋
牧德(Machvision) 先進外觀 AVI + 透明玻璃專用 AOI 傳統 PCB AOI 龍頭轉半導體與高階載板雙軌。著重 TGV 鑽孔後的表面宏觀缺陷,以及 RDL 細線路與微盲孔的 AVI/AOI 攔截
Teledyne(DALSA/FLIR) 超高速線陣相機 Linea HS2 + 分層自動對焦 視覺光源基礎。解決傳統背光模糊孔洞輪廓的問題,提供多層級 TGV 孔形狀與深度的 3D 精確對焦成像,是各大設備廠抓裂紋的核心相機元件
志茂(Inno-Stars) ATE 分選機與溫控測試 + 電性訊號檢測 電性缺陷攔截。與客戶開發「TGV 填銅後」的電性與系統級功能測試,非製程中的光學物理裂紋檢測
Advantest(愛德萬) ATE + 高頻電性探針測試 後段電性功能。TGV 封裝完、Die 堆疊後做系統級或晶圓級電性攔截。無法用光學看到內部裂紋,但若裂紋導致斷路/短路/漏電,可用高頻訊號測試攔截

三大裂紋檢測技術的物理限制(這是選型的關鍵)

技術 檢測對象 產線角色 物理限制
光彈檢測 應力與隱形裂紋尖端 In-line 即時預防——雷射打孔當下監控應力場,過高立即微調雷射參數 只能看透尚未金屬化的純玻璃。一旦填銅光線被擋住即失效;無法提供裂紋精確深度
3D 近紅外(NIR Tomography/OCT) 未填銅前的實體裂紋 3D 幾何結構 Near-line 高速複檢——打孔後或酸洗後快速掃描整片面板的孔型與微裂紋深度 同樣無法穿透金屬銅。且若表面存在高反射的電鍍種子層,會干擾 NIR 的進出與成像
3D X-ray CT 金屬化與填銅後的內部缺陷 Off-line 精密抽檢與失效分析——確認銅柱與玻璃介面的剝離與裂紋 速度最慢(需多角度投影與體素重構),通常無法 100% 全檢,以抽樣為主

由此推出的量產檢測順序:外觀與光學斷層 In-line 攔截 → 電鍍填銅 → 高速 X-ray In-line 篩選 + 局部 3D CT Off-line 複檢 → 出貨前或特定站點才做電性檢測(開短路)。 順序不能倒過來:先做電性檢測不僅抓不到即將爆開的微裂紋,還會因盲目測試未填好銅的孔而大幅浪費產能。

南韓國家隊

X-ray/CT 大廠 Innometry 於 2026 年切入玻璃基板賽道,向 JWMT、Xtol(部分外媒譯 Exitol)、AnyCasting 三家南韓廠商供應 TGV 專用高階檢測設備,代表三星體系的玻璃基板供應鏈已進入實質設備對接與小量產。

來源:研究_TSMC_CoPoS供應鏈與TGV玻璃芯基板_20260909(保密課程素材,引用前見該頁警示)

國泰講座:玻璃基板與矽中介層線寬對照(2026-10-29)

來源:memo_國泰證期_先進封裝HBM矽光子技術解析_20261029(講座 Memo,講者口徑)

  • 玻璃基板較有機載板耐熱、翹曲小,線寬約 2 µm 以上;Intel Glass Core Substrate 目標為取代 ABF/BT 載板。矽中介層線寬可在 1 µm 以下,講者稱玻璃取代中介層目前未見聚焦。

來源

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