定義
以玻璃芯基板(Glass Core Substrate)製程為主軸,從 TGV 成孔到絕緣/光阻/顯影/清洗的台灣材料供應鏈。玻璃芯基板具備低翹曲、低訊號損耗優勢,是下世代封裝基板的潛力技術。
供應鏈結構圖
flowchart TD
A["玻璃基板原材料<br>旭硝子/康寧等"]
B["TGV 成孔<br>4768_晶呈科技<br>LADY 乾蝕刻製程<br>深寬比 10:1"]
C["清洗/前處理<br>1773_勝一<br>封裝清洗劑"]
D["光阻/PSPI 塗布<br>1711_永光<br>1717_長興<br>正型 PSPI/光阻"]
E[圖形化曝光]
F["顯影<br>4755_三福化<br>有機溶劑系顯影材料"]
G["鍍銅填孔<br>電鍍設備廠"]
H["絕緣介電塗布<br>5234_達興材料<br>正型 PSPI"]
I[完成 Glass Core 基板]
A --> B --> C --> D --> E --> F --> G --> H --> I
各環節廠商
TGV 成孔(乾蝕刻)
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 4768_晶呈科技(櫃) | 台灣主要廠商 | LADY 乾式蝕刻製程,深寬比 10:1;Glass Core 已達,Glass Interposer 仍開發中 |
| 7828_創新服務(櫃) | TGV-ICP / 銅柱植入 | 與晶呈科技合作,承接上膠與銅柱植入;私訪 memo 稱高深寬比應用良率優於電鍍銅 |
銅柱填孔 / 模組化(金屬化替代路線)
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 7828_創新服務(櫃) | 銅柱模組與 TGV-ICP | 2026 年銅柱模組規劃 10000K 個 / 年、TGV-ICP 120K 片 / 年;若 2026H2 驗證通過,2027 年中 TGV 產線擴大 3–4 倍 |
| Finecs(日,台灣代理 C-TECH) | 預製銅柱供應 | 創新服務銅柱來源;創新不自製銅柱(JPM 2026-06-22) |
銅柱巨量轉移=電鍍銅以外的金屬化路線(JPM 2026-06-22)
光阻 / 正型 PSPI
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 1711_永光(市) | 感光材料/光阻 | 正型 PSPI,含玻璃芯基板光阻布局 |
| 1717_長興(市) | 封裝材料 | PSPI/光阻,TGV 後絕緣材料 |
| 5234_達興材料(市) | 正型 PSPI | RDL 介電材料,亦適用玻璃芯基板絕緣層 |
負型 PSPI 顯影材料
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 4755_三福化(市) | 台灣主要廠商 | 有機溶劑系顯影材料(二甲苯),負型 PSPI 顯影 |
清洗劑
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 1773_勝一(市) | 封裝清洗劑 | TGV 成孔後清洗及製程間清洗 |
設備供應鏈(六大關鍵製程)
來源:memo_玻璃載板FOPLP台廠設備_20260510 + 報告_呂紹旭_玻璃載板FOPLP_20260508(TPCA V3.1)
材料端如上方章節,設備端則對應玻璃載板「TGV 雷射改質 → 蝕刻通孔 → AOI → PVD 種子層 → 電鍍銅 → CMP 研磨」六大關鍵製程,台灣設備商從 PCB / 面板 / 半導體既有技術延伸切入。
設備製程結構圖
flowchart LR
A["玻璃原片<br>Corning/AGC/SCHOTT"] --> B["TGV 雷射改質<br>鈦昇 / 東捷"]
B --> C["蝕刻通孔<br>聯策 / 揚博 / 悅城<br>7730暉盛 / 亞智 Manz"]
C --> D["AOI 光學檢查<br>由田 / 晶彩科 / 蔚華科<br>翔緯 / 豪逸達"]
D --> E["PVD 種子層<br>友威科 / 富臨"]
E --> F["電鍍銅<br>敘豐 / 駿光"]
F --> G["CMP 研磨<br>均豪精密 / 多米諾"]
G --> H[完成 Glass Core 載板]
1. TGV 雷射改質設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 8027_鈦昇(櫃) | 雷射鑽孔龍頭 | 已切入 Intel 玻璃載板供應鏈驗證;每秒數千孔 |
| 8064_東捷(櫃) | 大尺寸雷射鑽孔 | 面板修補雷射經驗轉攻;自動化搬運整合 |
| 上儀 / 海納光電 / 誠霸 | 精密光學 / 超短脈衝雷射 | 客製化改質機台 |
國際對手:日本 DISCO、以色列 Orbotech、美國 MKS、康寧、三星電子
2. 蝕刻通孔設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 6658_聯策(市) | PCB 藥劑 + 視覺自動化 | 濕製程整線整合 |
| 2493_揚博(市) | 精密化學蝕刻 | 半導體級蝕刻藥劑 + 設備 |
| 6405_悅城(市) | 玻璃化學減薄 | 老牌大廠,玻璃化學特性數據庫 |
| 7730_暉盛(創) | 電漿改質 | TGV 蝕刻後孔壁清潔;已出貨 Ibiden;2026Q1 毛利率 44%(+4ppt YoY)、本業由虧轉盈,IC 載板/ABF 載板營收動能回溫 |
| 亞智 Manz(德商在台) | 玻璃濕製程 | 自動化水平 / 垂直蝕刻線 |
國際對手:日本 MEC Company Ltd.、德國 RENA、Manz
3. AOI 光學檢查設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 3455_由田(櫃) | 國內 AOI 龍頭 | 玻璃透光特性專用 2D / 3D 檢測(表面 / 孔內殘留 / 孔徑) |
| 3535_晶彩科(市) | 面板檢測轉攻 | TGV 專用孔徑 / 垂直度量測 |
| 3055_蔚華科(市) | 雷射斷層 3D(玻璃內部裂痕) | 非線性光逐層成像,玻璃內部裂痕檢測 Only Solution(現行 AOI 僅測表面);TGV / TSV 通用;客戶 DNP / 康寧 / Intel / Semco / 欣興 / 力積電;Nomura 稱與晶呈合作 TGV |
| 翔緯光電 / 豪逸達 / 波色 | 光學量測 | 精密光學量測儀器 |
TPCA 報告指出「AOI 為台廠具相對優勢的環節」,其他段台廠多處於追趕地位。 分工:由田 / 晶彩科主攻表面與孔徑量測;蔚華科以雷射斷層補玻璃內部裂痕檢測(玻璃基板多 fail 在內部裂痕,須 1000 小時可靠度測試)。 國際對手:以色列 Camtek / Orbotech、日本 SCREEN、美國 Mycronic
4. PVD 種子層設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 3580_友威科(櫃) | 真空濺鍍領導 | 玻璃孔壁銅種子層;高真空 < 10⁻⁶ Torr |
| 富臨 | 真空蒸鍍 | PVD 蒸鍍替代方案 |
國際對手:瑞士 Evatec、美國 Applied Materials、日本 ULVAC
5. 電鍍銅設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 3485_敘豐(櫃) | 濕製程電鍍自動化標竿 | 2026-05-06 興轉櫃;多段電流密度控制 |
| 駿光 | 半導體精密電鍍 | 通孔內銅填充緻密性 |
國際對手:美國 MacDermid Alpha、日本 UYEMURA、德國 MKS Atotech
6. CMP 研磨設備
| 廠商 | 地位 | 備註 |
|---|---|---|
| 5443_均豪精密(櫃) | 半導體設備聯盟核心 | 亞微米級平整度;氣囊式研磨頭 + 多區段壓力 |
| 多米諾 Domino | 表面噴碼 / 輔助平整 | 標記與輔助設備 |
國際對手:美國 Applied Materials、日本 DISCO、Okamoto
設備自主化機會總結
TPCA 報告觀點
台灣可發揮 PCB / 面板 / 半導體封裝累積的設備整合能力,但需突破: - 驗證平台缺乏:載板大廠對穩定性與良率要求極高,缺乏開放測試線銜接 - 雷射光源依賴進口:台廠多停留在系統整合與光路優化階段 - 電鍍液 / 添加劑配方:高階配方仍由國際大廠主導
AOI 段為台廠目前最具競爭力的環節,其他段需透過產官學合作建立試量產驗證線加速導入。
競爭格局
- 玻璃基板原材料:旭硝子(AGC)、GLW.US(corning)、NEG 等日美廠商主導。Corning 具熔融玻璃製程與核心材料技術,但 2026-05 call memo 指出半導體玻璃基板大規模採用可能落在 2030 年以後。
- TGV 成孔設備:Femtika、LightFab 等歐洲廠商;台灣以晶呈切入乾蝕刻氣體角色
- 台灣廠商機會:材料端(光阻/PSPI/清洗/顯影)有國產替代機會
- 商業化時程:Ibiden、Samsung Electro-Mechanics 為主要 IC 載板廠,導入進度緩慢
台積電「CoWoS 玻璃基板開發計畫」夥伴揭露(群益,2026-06-22)
群益證券指出台積電向供應鏈釋出「CoWoS 玻璃基板(Glass Substrate Development for CoWoS)」開發計畫,確定與 3481_群創(市)、ABF 載板大廠揖斐電(Ibiden)共同把玻璃基板導入下一代 CoWoS / 技術_CoPoS。直接回應下方觀察重點 #4(台積電玻璃基板路線圖):群創以玻璃上製作半導體元件與 技術_TGV 多年經驗卡位封裝端。來源 群益-3481-2602群創。
觀察重點(投資視角)
- 主要 IC 載板廠導入時程:Ibiden/Samsung E-M Glass Core 量產時程決定需求起爆點
- 晶呈 LADY 製程深寬比推進:能否從 10:1 突破至 Glass Interposer 所需深寬比
- 正型 PSPI 台灣廠商取得 Glass Core 供應商認證進度
- TSMC 玻璃基板封裝路線圖:何時正式導入玻璃芯基板
- TGV-ICP / 銅柱填孔驗證:創新服務 2026H2 驗證結果與 2027 年中擴產幅度,決定銅柱方案能否成為電鍍銅以外的高深寬比選項
- Corning 等玻璃材料龍頭的商業化口徑:若管理層持續將大規模採用定在 2030+,則短中期投資重點應回到設備驗證與材料卡位,而非玻璃原片營收爆發。
技術成熟度
玻璃芯基板目前仍屬 early-stage,商業化最快 2026-2027 年起步,但 Corning 2026-05 call memo 明確指出大規模採用可能落在 2030 年以後。台灣材料 / 設備廠商目前以卡位與驗證為主,財務貢獻仍需時間。
相關技術
相關供應鏈
來源
- 報告_福邦_半導體特化耗材展望202603,報告日:2026-03
- 活動_創新服務_私訪_20260424,2026-04-24
- 活動_Corning_GLW_線上會議_20260512,2026-05-12
- memo_蔚華科_私訪_20260604,2026-06-04(蔚華科雷射斷層玻璃內部裂痕檢測、客戶與量產機時程)
- JPM_Innostar_Service_The_2026-06-22_5259886,J.P. Morgan,2026-06-22(銅柱巨量轉移金屬化路線、Finecs 銅柱來源、switch ASIC 2H27 量產)
- 群益-3481-2602群創,群益證券,2026-06-22(台積電 CoWoS 玻璃基板開發計畫,群創 + 揖斐電共同夥伴)