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COUPE

更新 2026-06-11

定義

COUPE(Compact Universal Photonic Engine,緊湊型通用光子引擎)是台積電為共封裝光學(CPO)設計的矽光子引擎平台,也是 技術_OE光學引擎 的特定實作。COUPE 整合電子整合電路(EIC)與光子整合電路(PIC)並透過 SoIC 3D 鍵合,提供極高能源效率與頻寬密度。屬於 技術_SiPh 的子類,獨立成頁主因為:(1) TSMC 在 2026 技術論壇將 COUPE 列為取代銅線互連的關鍵路徑、(2) 涉及 SiPh + SoIC + 矽透鏡 + GC 耦合等獨立技術組合、(3) 量產時程綁定 NVIDIA Rubin / Rubin Ultra 平台,是 2027-2028 AI 資料中心網路升級的核心觀察點。

圖解

flowchart TB
    subgraph TOP[頂部光學耦合層]
        A1[FAU 光纖陣列]
        A2[矽透鏡 Si Lens<br/>770μm 矽載板]
        A3[GC 光柵耦合器]
    end

    subgraph EIC_PIC[3D 堆疊主體]
        B1[EIC 電子整合電路]
        B2[SoIC 鍵合介面]
        B3[PIC 光子整合電路]
        B4[MRM 微環調變器]
        B5[Si/SiN 波導]
        B6[Ge 光偵測器]
        B7[TDV 穿透電介質通孔]
    end

    subgraph BOTTOM[底部金屬反射鏡]
        C1[金屬反射鏡<br/>降低插入損耗]
    end

    A1 --> A2
    A2 --> A3
    A3 --> B5
    B1 --> B2
    B2 --> B3
    B3 --> B4
    B3 --> B5
    B3 --> B6
    B7 -. 各層連接 .-> B1
    B7 -. 各層連接 .-> B3
    A3 --> C1

圖說:COUPE-GC 採 3D 垂直堆疊架構,EIC 透過 SoIC 與 PIC 整合,頂部矽載板加工矽透鏡實現光學準直,GC 從上方耦合 FAU,背面金屬反射鏡降低損耗。

20260514_CPO_011

圖說:穎崴 PDF 引用 Counterpoint Research《矽光子與共同封裝光學(CPO)報告》之 CPO 演進路線圖;COUPE 對應 2.5D CPO Switch(2027 / <6.4T / 20% Cu + 80% Optics)3D CPO XPU(2030~ / 12.8T+ / 100% Optics) 兩個階段,分別是 COUPE Switch(Switch ASIC 端)與 COUPE XPU(GPU / ASIC 端)。來源:活動_穎崴_CPO論壇簡報_20260514

20260514_CPO_077

圖說:TSMC COUPE 結構示意(Source: TSMC,引用自穎崴 2026/05/14 簡報)。COUPE 即「Compact Universal Photonic Engine」——緊湊通用光子引擎,能將不同 SiPh 需求整合到同一平台,並提供更低的 GC(Grating Coupler)/ EC(Edge Coupler)插入損耗。COUPE 是無空腔或機械薄弱零件的實心結構,可避免污染與機械缺陷下實現低插損,並具易於與主機 ASIC 整合的彈性形成共封裝結構,鋪路給基於 SiPh 的晶圓級系統整合(WLSI)在高效能運算的應用。來源:活動_穎崴_CPO論壇簡報_20260514

20260514_CPO_078

圖說:TSMC COUPE 平台演進示意(Source: TSMC)。COUPE 平台是 TSMC 為了同時滿足不同 SiPh 應用的功率、性能與成本要求所提出的通用光子引擎結構,後續演進到 COUPE 2.0 並衍生 iOIS(integrated Optical Interconnect System)整體 CPO 平台。來源:活動_穎崴_CPO論壇簡報_20260514

20260514_CPO_080

圖說:CPO Roadmap 頻寬升級曲線。COUPE 對應 2.5D / 3D CPO 階段持續推升頻寬。來源:活動_穎崴_CPO論壇簡報_20260514

20260514_CPO_081

圖說:I/O Interface Evolution。從現行 OSFP / QSFP-DD 銅介面(CPC)→ NPO → 2.5D COUPE Switch → 3D COUPE XPU 的 I/O 介面演進路徑;COUPE 是最終全光互連階段的核心 IC 介面。來源:活動_穎崴_CPO論壇簡報_20260514

COUPE 1.0 / 2.0 / 3.0 完整演進對比(群益 2026/05/14 簡報)

技術世代 COUPE 1.0 COUPE 2.0 (iOIS) COUPE 2.0 (iOIS) 進階 COUPE 3.0 (OLSI)
對應 NVIDIA GPU Blackwell 初期版 Blackwell 進階版 Rubin Ultra 系列(Q1/2027) Feynman 3.2T 以上(2029)
對應光傳輸產品 1.6T 乙太網交換機 Quantum-X800:800G 可插拔模組、極低延遲訓練叢集;Quantum 3450 CPO 交換器 115.2T 總頻寬 NVLink 6.0:雙向 200G SerDes Memory ↔ Compute Fabric 全光互連;NVLink 內建 Chip 傳
主要定位 可插拔光學模組(Pluggable) 共同封裝光學(CPO) 處理器內整合(On-Package / Die) Full Optical NVLink、3D optical routing(In-Package)
結構位置 封裝外部(OSFP / QSFP 模組) 靠近處理器的 CoWoS 中介層 處理器 / GPU 內部(極近距離) Full OLSI Fabric、On-die / In-package deeply integrated
核心專利 US202003512xxA1(CPO 起點) US117036xxB2(Optical Interposer) US202101118xxA1(Die-to-Die) US202101118xxA1(Die-to-Die)
封裝技術 TSMC-SoIC®(EIC 面對面鍵合) CoWoS-L + SoIC + iOIS_CI CoWoS + 光學中介層 OLSI(光學局部矽連接) Optical CoWoS + 3D Optical Fabric
傳輸頻寬 ~1.6 Tbps ~6.4 Tbps ~12.8 Tbps 以上 > 3.2T per link / PB-scale system
功耗效率 pJ/bit < pJ/bit 512K GPU / InfiniBand 協議 sub-pJ deep sub-pJ/bit(0.5)
光電距離 cm 級(板級) mm 級(封裝級) μm 級(晶片級) sub-μm(接近 on-die)
雷射光源位置 外部光源(ELS)/ 插槽式 外部光源或封裝側邊整合 CWDM laser 外部或封裝內混合整合 DWDM Laser co-packaged / remote laser array DWDM Laser(或改採 μLED)
光引擎位置 模組(OSFP) 封裝旁(switch/GPU) CPU/GPU 內 GPU 內建(optical I/O cell)
EIC / PIC 製程 EIC: N6(6nm)/ PIC: 65nm 進階邏輯製程 / 導入 iOIS 平台(N5/N3 級) 極限微縮製程(N2 級)高度融合,幾乎無介面(Quasi-monolithic) N2 / A16 / advanced node
PIC 材料 Si Si Si Si
Waveguide 矽(Si)與氮化矽(SiN) 多層 SiN + 聚合物波導(PWG) 高密度 OLSI 矽波導 SiN + advanced hybrid(ultra-low loss)
Interposer Si Si + dielectric Advanced dielectric optical stack
優點 成熟供應鏈、易於導入、成本相對低 大幅降功耗 ~40% / 寄生電容減 85% 最低延遲、高能量效率(sub-pJ/bit) 極限 AI scaling
缺點 RC 寄生效應較高、延遲與功耗較大 封裝複雜度提升、需精密對準技術 製程難度極高、成本與良率挑戰大 製程 / 良率極難

演進主線

  1. COUPE 1.0 → 2.0:從可插拔到共封裝、光引擎從模組移到 ASIC 旁;寄生電容降 85%、功耗降 ~40%
  2. COUPE 2.0 → 2.0 進階:光引擎進到 GPU 內部;對應 Rubin Ultra(2027 Q1)量產窗口
  3. COUPE 2.0 進階 → 3.0:對應 Feynman 平台(2029);全光 NVLink、Optical CoWoS、可能改採 μLED 光源(呼應 技術_MicroLED_CPO 2028 通訊元年)

Side-by-Side OE 傳統架構 vs CPO + COUPE 效能對比

群益簡報的核心對比表(OE-ASIC Link 效能):

效能指標 傳統多模組 MCM(w/ uBump OE) COUPE / CoWoS-S 方案 改善幅度
傳輸距離(Link Length) 5 mm 1 mm 縮短 80%
線寬 / 線距(W/S) 22 / 44 μm 0.4 / 0.4 μm 極致微縮化
佈線密度(Routing Density) 1.0 X(基準) 80 X 提升 80 倍
頻寬密度(BW Density) 1.0 X(基準) 37.6 X 提升 37.6 倍
系統能源消耗 1.0 X(基準) 0.19 X 節能 81%
單一模組頻寬(Module) 尚未整合 4.8 T(1.6T × 3) 模組化高頻寬設計
Quantum X 總頻寬 傳統架構難以達成 115.2 T 超大規模算力叢集支援

NVIDIA Quantum 系列 115.2T 頻寬計算邏輯(COUPE 主供場景)

每 lane          : 200 Gbps
1 個光引擎       : 8 lanes × 200 Gbps = 1.6 T
1 個模組         : 3 個光引擎       = 4.8 T
1 個 ASIC        : 6 個模組         = 28.8 T
Quantum X 系統   : 4 個 ASIC        = 115.2 T

證明了 TSMC COUPE + CoWoS 整合是 NVIDIA 次世代超高頻寬交換器(Quantum 系列)的物理核心,透過極短互連(5mm → 1mm)與極高密度(佈線 80 倍 / 頻寬 37.6 倍)解 AI 資料中心的功耗與效能挑戰。

3D 堆疊 EIC / PIC 詳細製程(群益 PDF P.21-22 補充)

EIC(N7 製程)職責

  • 高速光學調變器驅動器(Driver)
  • 轉阻放大器(TIA):將光偵測器產生的微弱電流訊號轉換為 ASIC 可識別的電壓訊號並放大
  • 波長穩定控制器:對應 MRM 熱敏感問題(詳見 技術_MRM

PIC(65nm SOI SiPh 製程)職責

  • 光路模擬(電氣、光學、電光共同模擬)
  • 元件建模:雜訊與多波長分析

光學輸入 / 輸出(I/O)設計

  • 在支撐矽基板(770 μm Si Carrier)上設計微透鏡(μLens / Si microlens
  • 進行包含反射鏡光柵耦合器(GC)在內的全路徑模擬,以最佳化光纖耦合效率
  • 在封裝圖中,TDV(穿透電介質通孔)位於 PD 和 MRM 附近
  • 與傳統 TSV(矽通孔)相比,TDV 更靈活、更易於擴展,因為它可用更小禁區
  • 「低介電常數」材料可降低通孔間 / 通孔與裝置間的耦合(串擾)風險
  • 從而降低寄生電容並簡化散熱控制

Cu-Cu Hybrid Bonding(銅對銅混合鍵合)

  • EIC 以 Face-down(面向下) 方式,透過 Cu-Cu hybrid bonding 直接與 Face-up(面向上)的 PIC 進行 Face-to-face (F2F) 接合
  • 這是 TSMC 3DFabric 旗下 SoIC-X(混合鍵合)的典型應用,介面寄生電容降低 85%
  • PIC 內部含有 TDV(絕緣層穿孔),透過底部的 Cu Pillars(銅柱)與外部基板連接,實現高效電氣傳輸

整合性能(COUPE 2.0 / iFAU)

  • 採用 嵌入式微透鏡 + 垂直 O 波段光柵耦合器(GC) 整合
  • 實現 0.3 dB 光纖陣列耦合損耗、對齊公差 ±10 μm
  • 透過適當的整合微透鏡 + FAU 設計,FAU 對準容差可擴展到 > ±20 μm
  • 通過停用光束偏轉機制,BBC 也可用作高效能水平光纖耦合器

3D 堆疊挑戰(TSMC 自述)

  • 複雜的 3D 平面規劃
  • SoIC-X / TDV 凸塊佈局
  • 高頻通道建模
  • 關鍵的散熱(Thermal)與機械(Mechanical)結構穩定性分析

垂直 BBC 性能補充與材料選擇

  • 整合 GC + EC 優點:在 COUPE 2.0 中,一種結合了 GC 和 EC 優點的新型垂直寬頻耦合器(BBC)旨在有效實現 WDM 並進一步減少 OE 大小
  • 插入損耗 0.3 dB對準公差 ±10 μm
  • 與多行垂直 FAU 相容
  • PBSR 整合:高效能偏振分光器和旋轉器(PBSR, Polarization Beam Splitter & Rotator)可與垂直 BBC 整合
  • 可雙向使用:通過停用光束偏轉機制,BBC 也可作為高效能水平光纖耦合器
  • 材料選擇Intel 跟 TSMC 都使用石英或 SiN——透明、好對位、UV 硬化

光學引擎封裝 2D → 2.5D → 3D 演進(群益 PDF P.35)

從 2D 封裝到 2.5D、3D 封裝,TSV 與混合鍵合等封裝技術進展,使光子晶片(PIC)與電子晶片(EIC)能逐步縮短互連距離:

封裝層級 結構 寄生電容 / 損耗
2D Wirebond 並列 + 線接
2.5D Interposer + bump 中介層 + 微凸塊
3D WB 垂直堆疊 + 線接 中低
3D SoIC-X 混合鍵合 EIC / PIC 面對面 Cu-Cu 鍵合 降低 85% 寄生電容

SoIC-X 提供最短的光電轉換路徑最高的能源效率

COUPE 2.0 / iOIS / iFAU / D-FAU(2026-05-14 群益簡報深度解析)

群益 2026/05/14 簡報(產業_群益_CPO_D-FAU供應鏈_20260514)揭露 TSMC COUPE 2.0 平台與 iOIS(integrated Optical Interconnect System)核心元件:

COUPE 2.0:第二代 TSMC 光子引擎

  • 平台定位:TSMC iOIS(整合光學互連系統)核心;結合 COUPE 2.0 + 複合中介(CI),用於 HPC 與通訊系統的 CPO 平台
  • 與 NVIDIA 整合:證明 COUPE + CoWoS 是 NVIDIA 次世代超高頻寬交換器(Quantum 系列)的物理核心,以極短互連與極高密度解 AI 資料中心的功耗與效能挑戰
  • 3D 堆疊架構
  • EIC 採用 7nm FinFET CMOS
  • PIC 採用 65nm SOI SiPh(絕緣層覆矽光子製程)
  • PIC 以 Face-down(面向下)方式透過 SoIC-X(混合鍵合)與 EIC 進行 3D 堆疊
  • 這是 TSMC 3DFabric 旗下 SoIC-X 在矽光子領域的典型應用,也是當前矽光子核心競爭優勢

垂直 BBC(Broadband Coupler)— 三篇專利

  • BBC 是 iOIS 的重要組成;被設計為具有廣泛頻寬,可在廣泛波長上耦合光
  • TSMC 已對「垂直寬頻耦合器」進行三篇專利布局
  • 與其他 CPO 結構相比,iOIS 的優勢包含:低插損、垂直耦合便於 wafer-level test、可廣波長範圍工作

iFAU(integrated Fiber Array Unit)與 D-FAU

  • TSMC 開發 COI(complimentary optical interconnect)iFAU(integrated fiber array unit) 組件
  • iFAU 將傳統獨立的 FAU 改為與 PIC 平面整合的方案
  • 採用 Si microlens(μLens) 與 PIC 上的 Grating Coupler 進行表面耦合
  • μLens 能顯著提升對準容差並降低光損耗
  • 提供 ±10 μm 對齊容差0.3 dB 光纖陣列耦合損耗
  • 構造圖含 FAU Housing、垂直 O 波段光柵耦合器(GC)與嵌入式微透鏡整合

Meta-lens 取代 microlens 的下一階段

群益簡報指出 超穎透鏡(Meta-lens) 是 COUPE 平台從 1.6T 邁向 12.8T 的關鍵元件:

  • 不再依賴透鏡厚度產生光程差,而是利用平面基板上的奈米級結構(Meta-atoms)進行波前工程,直接對光的相位、振幅與偏振進行「數位化」調控
  • 解決傳統 Microlens 在高密度 2D FAU 空間不足、對位精度要求極高與耦合損耗的問題
  • 合聖(AuthenX) 研發的 Meta-lens 提供 ±18 μm 機械容差,是 CPO 商用化關鍵
  • 同時 6789_采鈺(市) 與奇景光電 憑藉成熟的 WLO(晶圓級光學)與 12 吋半導體光學製程,成為 TSMC COUPE 平台的重要元件供應商
  • 技術趨勢邁向 ASIC 與 GaN 的單晶整合(Monolithic Integration),利用 GaN 晶圓直接作為光學中介層(Optical Interposer)並兼作光波導;透過 TSMC COUPE 3D 封裝平台達成低於 1 奈秒傳輸延遲

技術原理

關鍵基礎元件

元件 材料 / 技術 功能
調變器 Modulator MRM(微環調變器,Micro Ring Modulator) 電訊號 → 光訊號轉換
波導 Waveguide Si / SiN(矽 / 氮化矽) 光訊號導引與路由
光偵測器 Photodetector Ge(鍺) 光訊號 → 電訊號轉換
耦合器 Coupler GC(光柵)/ EC(邊緣) 光纖對準耦合
EIC CMOS Driver / TIA 高速電訊號驅動與接收
PIC 矽光子 + III-V 雷射 整合光學元件

COUPE-GC 結構特徵

  • 3D 垂直堆疊(SoIC 鍵合):EIC 透過 技術_SoIC 鍵合技術與底層 PIC 結合,頂部加鍵合 770μm 矽載板(Si Carrier),內部採 TDV(穿透電介質通孔,Through Dielectric Via)各層連接
  • 矽透鏡整合:在頂部矽載板上加工矽透鏡,實現光學準直;GC 架構的 FAU 從上方直接光學耦合,免去側面對準難度
  • 金屬反射鏡:位於 GC 正下方背面,減少插入損耗,提升光耦合效率
  • 與傳統 Pluggable Optical 差異:COUPE 直接封裝在 Switch ASIC 或 XPU 旁,免去長距 PCB trace 損耗,是 1.6T / 3.2T 頻寬世代必要架構

競爭格局

廠商 路線 競爭定位
2330_台積電(市) COUPE(SiPh + SoIC + GC + 矽透鏡 3D 整合) TSMC 主推 CPO 平台;綁定 A16 / N2 / CoWoS 客戶生態
Intel Intel Silicon Photonics / Foveros 光電 與 EMIB-T 配套;客戶 dual sourcing 評估點
Marvell、Broadcom CPO Switch ASIC + 自研光學整合 在 CPO Switch ASIC 端切入;與 TSMC COUPE 形成上下游
Coherent、Lumentum、II-VI OCS、Pluggable 光模組、PIC 元件 CPO 替代 / 並存方案

技術瓶頸 / 風險

  • 熱管理:COUPE 封裝在 Switch ASIC / XPU 旁,CPO 整體熱密度大,影響光元件壽命與波長穩定性
  • FAU 對準精度:80-100μm 細間距、>2 排機架空間限制;low-profile 多排 FAU 設計是量產關鍵
  • DWDM / CWDM 波長穩定:MRM 對溫度敏感,AI 資料中心高功耗環境下波長漂移需主動補償
  • III-V 雷射整合:磷化銦(InP)異質整合在矽晶圓上是雷射光源關鍵;TSMC 與 ELS(External Laser Source)路線並行
  • 量產 ramp 取決於 Rubin 平台:NVIDIA Rubin / Rubin Ultra 是否如期導入 CPO 是放量關鍵
  • TCO 對比:相對 1.6T pluggable optical module 的成本優勢需在 3.2T 世代才能顯現
  • 同業競爭:Intel、Marvell、Broadcom 在 CPO 整合各有路線,TSMC COUPE 須證明可量產與成本競爭力

投資觀察點

  • NVIDIA Rubin / Rubin Ultra 平台 CPO 導入時程:Goldman Sachs 估 Vera Rubin NVL72(2H26-2027)開始部分情境 25% CPO、Rubin Ultra NVL144/576(2H27-2028)大規模導入 3.2T CPO
  • TSMC COUPE 量產時程:技術論壇揭露但未明確量產日期;觀察 Switch ASIC 客戶(Broadcom / Marvell)與 GPU 客戶(NVIDIA)的 tape-out 進度
  • 台廠光電供應鏈受惠順序:FAU / FAU 對準(3363_上詮(櫃))、CoS / Box 雷射封裝(3450_聯鈞(市))、磊晶(3081_聯亞光電(櫃)2455_全新(市))、CPO 耦合(6442_光聖(市)
  • Pluggable 與 CPO 並存節奏:1.6T pluggable 與 CPO 是否如預期共存、GB300 → Vera Rubin 過渡期 mix 變化

技術演進時程

時間 事件 意義 來源
2026Q2-Q4 第一、二代 CPO 初期出貨觀察期;台廠 Himax / 上詮 CPO 進度可觀察 起步 多券商 2026-05-12 摘要
2H26-2027 Vera Rubin NVL72 部分情境 25% CPO(GS 估) 試行 技術_SiPh GS 補充
2026-2027 TSMC 技術論壇宣示 COUPE 是全光互連取代銅線的核心路徑 規格制定 活動_台積電技術論壇_20260514
2027 第一、二代 CPO 進入量產 ramp 觀察期 量產 多券商 2026-05-12
2H27-2028 Rubin Ultra NVL144 / NVL576 開始導入 3.2T CPO TOR 量產 GS 2026-04-17
2028+ CPO 約占 scale up + scale out value TAM 約 59%(GS 估 910 億美元) 放量 GS 2026-04-17

關鍵廠商

環節 廠商 角色
平台整合 2330_台積電(市) COUPE 主推方;綁定 SoIC + CoWoS + N2 / A16 客戶生態
Switch ASIC Broadcom、Marvell CPO Switch ASIC 開發;TSMC COUPE 主要客戶
GPU / XPU NVIDIA Rubin / Rubin Ultra 平台採用 CPO
雷射磊晶 3081_聯亞光電(櫃)2455_全新(市) EML / Pump / CW Laser / III-V 磊晶
FAU 光纖耦合 3363_上詮(櫃) FA / FAU 與 CPO 光纖耦合
高階雷射封裝 3450_聯鈞(市) CoS / Box / Butterfly 雷射封裝
矽光子耦合 6442_光聖(市) 矽光子耦合與 ELS 光通訊封裝
Micro LED 替代路線(觀察) Avicena、Microsoft、PlayNitride Intra-Rack 短距高速傳輸候選

應用場景

  • AI 資料中心 Switch(1.6T / 3.2T CPO TOR)
  • XPU 光學 I/O(GPU、ASIC、TPU 等加速器光連)
  • Rack-level 高頻寬 scale-up 連接
  • 高密度 CPO Switch ASIC 主機板光電整合

相關技術

供應鏈

競爭格局 — 專利申請量

年份 TSMC 美國 SiPh 專利申請 Intel 狀況
2023 46 件 43 件 幾乎持平
2024 50 件 26 件 TSMC 遙遙領先(Intel 腰斬)

來源:Nikkei 報導,引用於 web_TrendForce_TSMC_COUPE_20250909(2025-09-09)。TSMC 的專利攻勢加速,Intel 仍停留在 R&D / 展示階段,TSMC 已確認 2026 年 CPO 量產。

來源

相關頁面