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嵌入式基板

更新 2026-05-26

定義

嵌入式基板(Embedded Component Substrate / Embedded Component Packaging)是在 PCB、IC 載板或封裝基板內部預先形成 cavity / 內層空間,把被動元件、薄化 IC die、功率元件、電感線圈或電容結構埋入基板內,再用雷射鑽孔、銅柱、via、build-up 層與表面線路連接。它把原本只能放在板子上下表面的元件移到基板內部,目標是縮短電源 / 訊號路徑、降低 ESL / 寄生電感、縮小模組面積並改善散熱。

使用者提到的「把 MLCC 嵌入基板裡」屬於 embedded passive 的一種方向;公開資料中,Murata iPaS 已公開電容 / 電感嵌入基板方案,但其 capacitor iPaS 是整合電容板產品,並非直接宣稱把標準 MLCC 顆粒大量埋入 ABF 載板。投資研究上應區分:標準 MLCC 表面貼裝、低 ESL MLCC / 矽電容靠近 die、以及真正 embedded capacitor / passive substrate 三種路線。

圖解

flowchart TB
  Die[ASIC / GPU / PMIC / Power IC] --> Top[表面互連 / C4 bump / micro bump]
  Top --> Sub[嵌入式基板 build-up layers]
  subgraph Sub[Embedded substrate]
    Cap[Embedded capacitor<br/>低 ESL 去耦 / VPD]
    Ind[Embedded inductor<br/>平面線圈 / power inductor]
    Chip[Embedded die<br/>薄化 IC / power device]
    Cu[銅柱 / via / RDL<br/>垂直導通與散熱]
  end
  Sub --> PCB[系統 PCB / 電源模組]
  Cap --> PDN[縮短 PDN 電流路徑]
  Chip --> Mini[縮小模組面積]
  Cu --> Thermal[散熱與高電流承載]

圖說:嵌入式基板把電容、電感或薄化晶片移到基板內部,再透過雷射 via / 銅柱與 build-up 線路連到表面晶片和下層 PCB。

技術原理

  1. 元件薄化 / 低高度化:IC die 可先背磨至數十微米等級;TDK 公開 SESUB 可將晶片薄化到 50um,嵌入四層塑膠基板後總厚度約 300um。被動元件若要內埋,也需做成薄片、薄型封裝或可層壓結構。
  2. 內層 cavity / recess 製作:AT&S ECP 說明會用雷射在內層移除特定區域,將元件放入 recess,後續再雷射鑽孔建立連接。
  3. build-up / lamination:元件固定後,透過壓合、介電層、銅箔 / 種子層與增層製程,把元件包埋在基板中。
  4. 垂直互連:用雷射 via、銅柱、RDL 或焊點把嵌入元件的端點連到上層晶片、下層 PCB 或側邊電源路徑。
  5. 測試與可靠度:埋入後元件不可像表面貼裝一樣返修,製程必須在前段就確認 KGD / known good passive、空洞、翹曲、熱循環與濕熱可靠度。

關鍵參數 / 判斷指標

指標 意義 觀察重點
元件厚度 決定能否被壓合在內層 AT&S ECP 公開元件厚度 55-500um;TDK SESUB 公開 50um 薄化晶片
基板層數 決定 routing 與電源層能力 AT&S ECP 公開 4-14 層、embedded core 2 或 4 層
電流路徑長度 影響 ESL / IR drop Murata iPaS 強調內部 through-hole 縮短 current path、降低 ESL
熱阻 / 散熱路徑 功率元件與 AI VPD 核心 厚銅、銅柱、熱 via、molding compound / build-up 材料
KGD / KGP 埋入後不可返修 IC die、電容、電感需先測與 traceability
良率與重工性 量產成本核心 embedded passive / die 失效會報廢整片基板或模組

公開推動與量產資料

廠商 / 技術 公開進展 對本主題的意義
AT&S ECP AT&S 公開 ECP 已服務全球醫療、電源電子、資料管理、工業、航太與通訊領域超過 10 年,規格含 4-14 層、元件厚度 55-500um embedded component PCB 已商業化,不只是實驗室概念
TDK SESUB TDK 公開 SESUB 可把 50um 薄化 IC 嵌入四層基板,總厚度約 300um;2015 年與日月光宣布在高雄合資製造 IC embedded substrates IC embedded substrate 已有量產 / 擴產歷史;應用 PMIC、sensor、RF tuner
Murata iPaS Murata 公開 capacitor / inductor embedded substrate,目標 AI data center、VPD 與高電流電源設計 電容 / 電感埋入基板是 AI 電源封裝的明確推動方向
6920_恆勁科技(興) C2iM 2026Q1 法說指出 C2iM 可埋入晶片或被動元件,且可做 70um 厚銅柱;ALF / FOPLP 已量產,線圈載板與微流道散熱認證中 台灣功率封裝載板廠切入 embedded / vertical power delivery 的觀察點

與 MLCC / 電容的關係

AI GPU / ASIC 的供電網路需要從 VRM 到 die 端分層去耦。傳統做法是在 PCB / 載板表面大量放置 MLCC,靠近晶片以降低 loop inductance;但當功耗上升、電流路徑縮短需求提高,embedded capacitor 可把去耦元件移入基板內部,進一步降低 ESL 與佔板面積。

要注意三個區別:

路線 優點 限制
表面貼裝 MLCC 成熟、便宜、可返修、供應鏈完整 高密度封裝下佔面積,via / trace 仍有寄生電感
低 ESL MLCC / 矽電容 / IPD 更靠近 die,適合高頻去耦 成本高,容量 / 電壓 /供應鏈不同
embedded capacitor substrate 路徑最短、模組面積最小,適合 VPD 內埋後不可返修,元件薄化、良率、熱應力與測試門檻高

因此,「把 MLCC 嵌入基板」不是單純把現有 MLCC 顆粒塞進 ABF,而是要看元件是否有薄型化、端點設計、層壓可靠度與 via 連接設計。Murata iPaS 與 TDK SESUB 顯示方向成立,但實際產品可能是嵌入式電容結構、薄型電容、矽電容或客製被動元件,不一定等於標準 MLCC。

應用場景

  • AI GPU / ASIC 垂直供電(技術_VPD,Vertical Power Delivery)
  • PMIC / DC-DC 電源模組、SPS、DrMOS / power stage 周邊
  • 手機、穿戴、IoT 的小型 SiP 模組
  • 車用與工業功率模組
  • RF / sensor / Bluetooth / PMU 等高度小型化模組

技術瓶頸 / 風險

  • 良率疊乘:基板本身、埋入元件、via 連接與表面封裝都會疊加良率損失。
  • 不可返修:被動元件或 die 一旦埋入,後段失效通常無法像 SMT 一樣更換。
  • 熱膨脹不匹配:陶瓷、矽、銅、樹脂 / molding compound 的 CTE 不同,熱循環可能造成裂紋、delamination 或 via 失效。
  • 設計生態系:需要封裝 / PCB / 元件 / EDA 協同,設計規則不像標準 MLCC SMT 那麼成熟。
  • 成本與應用選擇:只有在高電流、高頻、極小尺寸或高可靠度需求足以抵消成本時,才會取代表面貼裝。

關鍵廠商

類型 廠商 角色
Embedded PCB / substrate AT&S ECP 技術公開量產應用,元件嵌入 PCB
IC embedded substrate TDK / ASE Embedded Electronics SESUB 技術與台灣合資製造歷史
Embedded passive substrate Murata iPaS capacitor / inductor embedded substrate,面向 AI data center power delivery
台灣功率載板 6920_恆勁科技(興) C2iM / C3iM,可埋晶片或被動元件;AI 電源與 FOPLP 觀察
封測 / SiP 3711_日月光投控(市) TDK JV 合作方;SiP 與模組封裝能力

相關技術

  • 技術_MLCC:表面貼裝與低 ESL 電容仍是主流基礎。
  • 技術_矽電容:高密度去耦 / IPD,可與 embedded substrate 互補。
  • 技術_ABF載板:高階 IC 載板主流材料 / 工法,部分 embedded bridge / passive 路線需與 ABF 生態系整合。
  • 技術_EMIB-T:局部矽橋嵌入 ABF 載板,是 embedded silicon bridge 的先進封裝分支。
  • 技術_FOPLP:面板級封裝與嵌入式 die / module integration 有工法相鄰性。

供應鏈

供應鏈_AI伺服器板上電源

來源

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