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金像電

更新 2026-06-26

PDF 原檔:金像電_original.pdf

原始內容

GCE ⾦像電⼦

李知澂 Kevin

楊思穎 Niuniu

報告人:

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CONTENTS

GCE 簡介

PCB 種類

PCB 製程介紹

歐印金像電! 戴上金項鍊

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GCE 營收結構

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2026 E

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2027 E

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2028 E

GCE 商業模式

客戶

以四大CSP廠為主 : AWS 、GOOG、META 、MSFT 為主

商業模式

  • 以系統廠選材下單為主
  • 最高決策權還是以CSP廠端區做決定或更換

GCE ⽣產據點

廠區據點 負責業務 ⽣產進度
台灣中壢廠 ⾼階板材為主 ( 包含研發單 ) 稼動率⻑期維持在 95% 以上 Q2 ⾼階產品預計持續推升產值, 相較 Q1 可再提升 2 億。
中國蘇州廠 ⾼階板材為主 ( 量產單為主、良率較⾼ ) 廠區較⼤也相對新,能貢獻的產量⾼
常熟廠 ( 常熟⼀廠、⼆廠 ) 以中低階為主 ⼀廠⽉產出 7 億、⼆廠落在 3 億元
泰國八真府廠 ( 泰國⼀廠、⼆廠 ) 以中低階為主,廠房建置中 產出 4 億元、 2Q26 的產能仍提升中 ⽬前近⼀廠可貢獻產能,⼆廠今年建廠,估 4Q27 量產

PCB structure comparison

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  • Stub effect
  • 增層法
  • 盲孔&埋孔
  • 樹脂填孔

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改良型半加成法

  • 超薄覆銅基板
  • 閃蝕

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  • 核⼼技術:覆晶 ( Flip-Chip )
  • 關鍵材料: BT 樹脂
  • 連通 : 微⾦屬凸塊 (C4 Bump / Cu Pillar)

PCB structure comparison

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  • FC (Flip-Chip 覆晶 )
  • ABF 材料
  • BGA (Ball Grid Array ,球柵陣列 )
  • 純半加成法( SAP 製程

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內層影像轉移

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1.覆膜

(Coater)

在銅箔表面附上 感光乾膜

2.影像轉移

(Image transfer)

利用LDI曝光機將 圖形成像至乾膜 上

3.顯影 洗掉沒有被曝光 (Developing)

的膜

4.蝕刻 咬掉沒有被膜保 (Etching)

護的銅

5.剝膜 將原本留在銅面 上的膜剝掉 (Stripping)

棕化與壓合:完美結合的關鍵

棕化 (brown oxide)

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透過藥水使銅面產生氧化物 結晶,增加粗糙度,強化後 續與膠片的結合力

壓合 (Lamination)

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依材料Tg不同調整溫度、壓力 註:熔點Tg 越高,耐熱性、尺寸穩定 性越好

機鑽與雷鑽:突破空間限制

機械鑽孔

貫通孔 (Through Hole)、大 盲孔、工具孔

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雷射鑽孔

微盲孔 (Micro Via)、埋孔、 軟板微孔

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機鑽不良導致的失效模型

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電鍍前處理:孔壁清潔

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一次銅烤箱

烘烤去除板上的水氣,防止電鍍高溫與後續製程中的 「爆板」和電鍍孔壁出現「空洞(Void) 」

去毛頭(Deburring)

透過物理機械刷膜或高壓噴砂,去除孔口因鑽孔產生的 毛邊

微蝕

清除鑽孔後的銅刺(Burrs Removal),確保除膠渣 (Desmear)的通道暢通

除膠渣 (Desmear)

徹底去除通孔中的膠渣。

使用乾(電漿法)+濕製程(Sweller 膨鬆槽、高錳酸 槽、中和槽)

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電鍍:化學銅+⼀次銅

第一階段:PTH化學銅

使絕緣的孔壁透過化學鍍銅, 在孔壁表面沉積一層薄薄的導 電層

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第二階段:一次銅電鍍

利用電流在孔壁沉積較厚的銅 層,以利訊號傳遞

背鑽技術:⾼頻傳輸的解⽅

背鑽(Back drill)

鑽掉不需要的銅層,並控制殘銅長度。提 升高頻電訊穩定性及品質

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出貨前的準備

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1.外層線路

重複影像轉移、 二次銅與外層蝕 刻,最後透過AOI 光學檢驗確保線 路完美

  • 2.防焊塗佈 (Solder Mask)

避免線路之間短 路以及防支濕氣 導致氧化

3.文字印刷

(Silkscreen)

印上元件標示

  • 4.表面處理 防止裸露的銅面 氧化 (Surface Finish)

5.最終測試

進行電性測試、 板灣翹、可靠度 測試確認後出貨

相關供應鏈

CCL

  • 台光電、台燿、 聯茂、⽣益

電鍍前準備

  • Desmear: ⽇本上村、 超特、颶風

內層線路

  • LDI :以⾊列奧 寶、穎速壓膜: 志聖

鑽孔

  • 鑽針:尖點、凱威 機台:⼤量、東台
  • Plasma 設備:馗⿍、 暉盛
  • 墊板:鉅橡

PTH 化學銅+⼀次銅 背鑽

  • 藥⽔:德國安美 特、美國麥德美 愛法
  • 設備: Manz 亞智 科技、創峰光電 或、巨東機器
  • 鑽針:尖點、凱 威
  • 設備:⼤量、東 台

沖孔

  • 設備:⼤量、銀 泰、中國泰科思 特
  • 設備:活全、群翊
  • 膠片:台光、聯茂、 南亞、⽇本松下

檢驗

  • 設備:牧德

內層檢驗

  • 設備:牧德

棕化

  • 德國安美特
  • 超特、開利達

外層線路

  • 前處理:群翊、志聖
  • LDI :奧寶
  • 藥⽔:安美特、麥德美 愛法、超特
  • SES 設備:揚博

相關供應鏈

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GCE Revenue FORECAST

Reference by DAIWA

TP base on 27E EPSPE → 5530 = 1650

定價權轉嫁能⼒⾼

  • 2026 COGS : 64%

  • 2027 COGS : 61%

  • 2028 COGS : 59%

伺服器 PCB 出貨量逐年提升

  • 2025 年:

54,601.1 k sqft

  • 2026 年:

63,085.5 k sqft

  • 2027 年:

72,049.9 k sqft

  • 2028 年:

81,919.1 k sqft

ASP :每單位( k sqft) 售價不斷提⾼

  • 2025 TWD 488.5

  • 2026E TWD 704.7

  • 2027E TWD 1,038.6

  • 2028E TWD 1,278.8

圖片清單(已驗證 2026-07-02)

回補驗證:僅涵蓋已被 lib 頁嵌入的圖片,非全量驗證。

檔名 size 分類 親眼所見內容
金像電_006.png 372KB 真資料圖 PCB板層結構立體示意圖,由上而下標示 Top Layer、Pre-Preg、Core、Pre-Preg、Bottom Layer 五層
金像電_007.png 2.0MB 真資料圖 PCB技術演進示意圖,依序展示 HLC(傳統多層板)、HDI(高密度互連板)、SLP(類載板)、CSP(晶片級封裝載板)、FCBGA(覆晶球柵陣列載板) 五種載板剖面圖,並標註 PTH、Laser microvias、mSAP/Space 25/25μm、Trace/Space 25/25μm、Via dia. 100μm、Pad pitch 400μm 等技術參數
金像電_013.png 1.8MB 真資料圖 FCBGA立體結構示意圖,標題「覆晶球柵陣列載板(FCBGA):互連複雜度的極致巔峰」,標示 Via dia. 100μm、Pad pitch 400μm、BGA Ball Array 及對應中文註解文字
金像電_016.png 274KB 真資料圖 PCB內層製程流程示意圖,依序展示壓模、內層影像轉移、曝光(曝光後)、內層影像顯影、內層蝕刻、內層去膜等步驟圖解
金像電_024.png 441KB 真資料圖 PTH(Plated-Through-Holes)背鑽(Backdrilled)結構示意圖,標示 Stub、Trace 標籤