定義
晶片內微流道冷卻(In-Chip Microfluidics)是把冷卻微流道直接蝕刻在晶片背面或矽中介層內,讓冷卻液在晶片內部流動的封裝級散熱路線。這是散熱技術路線圖的終極目標,理論可支援 5,000W 以上的晶片功耗,並在熱均溫與瞬時熱尖峰控制上有顯著優勢。
此技術牽涉晶圓製程、封裝設計、冷卻液純度與可靠度的系統性變革,導入成本與風險極高,目前仍處研究/驗證階段,尚未商業量產。
圖解
封裝級散熱路線熱路徑對比:

圖說:現行水冷板與 MCL 微通道蓋板的層疊截面對比。左上為現行架構:Cold Plate/TIM2/Lid & Stiffener/TIM1 疊在並排的 HBM 與兩顆 Circuit 上,下為 Substrate;右上 MCL 把 Lid 與冷板合一,蓋板內側做微通道鰭片,只剩 TIM1 隔在晶片與流道之間;下方為可拆卸蓋板設計(Removable Lid):拆掉 Lid 後 Cold Plate 以 TIM1.5 直接貼合。終極的 In-Chip 方案把流道直接蝕刻在矽背面、冷卻液直接接觸晶片,消除 TIM1/TIM2 與蓋板等中間介面、理論熱阻最低,剖面見下方各圖。來源:內部研究簡報(散熱產業)2026-06-30
技術原理
基本架構
冷卻微流道(寬度約等同人類頭髮,即數十微米)直接蝕刻於晶片背面矽基板中。冷卻液(去離子水)在微流道中流動,直接帶走晶片產生的熱量,幾乎消除傳統 TIM1、Lid、TIM2 等介面的熱阻。
Microsoft × Corintis 研究成果(2025 年 9 月公開)
Microsoft 與瑞士新創公司 Corintis 合作,利用 AI 演算法設計出「仿生葉脈型」微流體通道,精準定位晶片內部熱點(Hotspot)進行冷卻:
- 散熱效率達傳統冷板的 3 倍
- 可降低 GPU 矽晶片最高溫升達 65%
- 通道設計模擬自然界葉脈分佈,以最小流阻達到最均勻散熱
與 Corintis 冷板內微流體的區隔(OCP 2026)
Corintis 在 OCP 2026 展示的是「冷板內微流體核心」(晶片專屬流道、單相 drop-in、不蝕刻進晶片):NVIDIA H200、1 LPM 實測 GPU 溫升 −19%、HBM −23%,並提出 OCP Cold Plate Performance 工作項(模擬工具與 ECXML 封裝模型、通道/鰭寬 <100 µm 的先進製造、2 kW 高解析矽熱測試載具)。它與本頁的 in-chip(流道做進矽)是兩條路線,前者可沿用既有封裝與供應鏈,後者仍屬研究/驗證階段。(報告_OCP2026_Google_Microsoft_Meta_單相冷板極限_20261015,2026-10)另 Microsoft 在同場座談稱其單元格冷板原型結溫最多降 10°C,亦屬冷板端。Microsoft×Corintis 2025-09 的仿生葉脈流道成果見上節。
TSMC micropillar 直達矽冷卻(ECTC 2026 實測數據)
TSMC 在 ECTC 2026 發表 CoWoS-R 平台上的 micropillar direct-to-silicon 液冷實測(選 CoWoS-R 因有機中介層翹曲容忍度與製程相容性較佳)。測試載具為 3.3× reticle 中介層 + 4 SoC die + 8 HBM stacks:
| 方案 | 散熱能力(40°C 去離子水) |
|---|---|
| 傳統帶蓋冷板(lidded) | 1.9–2.3 kW @1–2LPM,>4LPM 後飽和(TIM 成瓶頸) |
| 無蓋冷板(lidless) | 2.5–3.0 kW @1–2LPM,>4LPM 後飽和 |
| micropillar 直達矽 | 4 kW @4LPM、5.3 kW @8LPM,全載具均勻散熱 >5kW |
- micropillar 直接成形於 SoC die 背面,讓冷卻液貼近熱源
- 挑戰:需在 chip-on-wafer 製程後成形 micropillar 而不損傷 CoWoS-R 結構、開發新密封材料對抗翹曲與 CTE 失配;測試載具通過 MSL4,無氦氣洩漏與密封剝離
- 註:台積電本屆 ECTC 僅 3 篇論文(Intel 12 篇、Samsung 11 篇)

圖說:直達矽冷卻封裝剖面示意——冷卻液進出流道(藍/紅)流經 micropillar 齒狀矽背面。來源:TSMC, ECTC 2026 © SemiAnalysis

圖說:TDP vs 流量實測曲線——Micropillar TTV 至 ~5.9kW@16LPM 持續上升;Lidless/Lidded TTV 在 4LPM 後飽和於 ~3.3/2.2kW。來源:TSMC, ECTC 2026 © SemiAnalysis
Microsoft GH200 實機微流道驗證(ECTC 2026)
Microsoft 與 TSMC 路線不同:把直線微通道直接蝕刻進 GPU 矽,且直接用 NVIDIA GH200 實機測試(非熱測試載具),可捕捉真實熱點分佈:
- 跨 HPCG/HPL 等工作負載,GPU junction-to-inlet 熱阻 −51~60%(@1LPM);HBM 僅 −27~37%(仍走冷板+TIM);整體封裝熱阻 −50%
- 可靠度初步數據:6 個月 ~4,370 次觀測僅 9 次潛在堵塞事件,且頻率隨時間下降;微通道無可量測矽侵蝕;節點級通過 3 週反覆 benchmark + 1 週連續運轉
- 叢集級 MTBF 與可用性仍在測試中

圖說:Microsoft GH200 微流道冷卻組裝剖面示意——Inlet/Outlet 流道、兩側 Coldplate 冷卻 HBM、中央 GPU SoC 走微通道。來源:Microsoft, ECTC 2026 © SemiAnalysis
關鍵參數 / 判斷指標
| 指標 | 意義 | 觀察重點 |
|---|---|---|
| 流道寬度 | 影響換熱係數與製程難度 | 目前研究中數十微米 |
| 冷卻液純度 | 微流道極易因雜質堵塞 | 去離子水純度規範 |
| 晶片良率 | 在昂貴晶片上蝕刻流道的失敗成本極高 | 商業化的最大障礙 |
| CTE 匹配 | 矽、冷卻液、封裝材料熱膨脹係數差異 | 熱應力與翹曲問題 |
技術瓶頸 / 風險
- 良率與成本:在 AI 訓練晶片(單顆造價數萬美元)上蝕刻微流道,一旦失敗損失極高,良率要求近乎苛刻
- CTE 不匹配:矽(2.6 ppm/°C)、冷卻液與封裝材料熱膨脹係數差異大,高溫循環下易產生結構翹曲
- 冷卻液可靠度:液體直接在晶片內流動,漏液風險直接摧毀晶片,可靠度驗證週期極長
- 生態系重建:整個封裝設計、CDU 系統、純水管理體系均需從頭配套,NRE 成本與導入周期遠高於 MCCP/MCL
- 標準化缺失:目前無業界標準接口,每個平台需獨立設計
與現行路線的關係
timeline
title 封裝級散熱演進路線
2025~2026 : Direct-to-Chip 冷板主流(2,000W 級)
2026 : MCCP 量產(2,000W+,系統端強化)
2H26~2027 : MCL 開始採用(3,000W+,封裝蓋板整合)
2028+ : In-Chip Microfluid(5,000W+,終極目標)
應用場景(預期)
- 未來 5,000W+ 超高功耗 AI 晶片
- 高均溫要求的大型 SoC / Chiplet 架構
- 需要精準熱點控制的 AI 推論晶片(高頻局部熱點問題更嚴峻)
相關技術
來源
- 報告_SemiAnalysis_ECTC2026先進封裝_20260702,SemiAnalysis,2026-07-02(TSMC micropillar CoWoS-R 實測 4–5.3kW、MSL4;Microsoft GH200 實機微通道 −50% 熱阻、6 個月可靠度)
- 報告_OCP2026_Google_Microsoft_Meta_單相冷板極限_20261015 — OCP 2026-10,Corintis 冷板內微流體與 in-chip 區隔
- 散熱產業簡報(2026-06-30)報告_散熱產業_20260630
- Microsoft Research Blog:In-chip microfluidic cooling for high-performance silicon systems(https://www.microsoft.com/en-us/research/blog/in-chip-microfluidic-cooling-for-high-performance-silicon-systems/)
- InfoQ:Microsoft In-Chip Liquid Cooling(https://www.infoq.com/news/2025/10/microsoft-in-chip-liquid-cooling/)
- Technology Record:Microsoft and Corintis cool down semiconductors using microfluidics and AI(https://www.technologyrecord.com/article/microsoft-and-corintis-cool-down-semiconductors-using-microfluidics-and-ai)
- Semiwiki:Direct-to-Silicon Liquid Cooling for High-Density Chips(https://semiwiki.com/semiconductor-services/345598-direct-to-silicon-liquid-cooling-for-high-density-chips/)