定義
光隔離器(Optical Isolator) 是只允許光單向通行的光被動元件。它利用法拉第磁光旋轉的非互易特性,搭配偏振器或雙折射晶體,讓正向光低損耗通過,並阻斷反向回光。
在光通訊鏈路中,反射光若回到雷射二極體(LD),可能造成相位雜訊、線寬增寬、相對強度雜訊上升,嚴重時會讓雷射不穩或損毀。因此隔離器常被放在雷射輸出端、EDFA pump 或 CPO 外部光源鏈中,保護高功率雷射與穩頻元件。
圖解
flowchart LR
subgraph F["正向路徑"]
LD["雷射輸出"] --> P1["起偏器<br/>0 度"]
P1 --> FR["法拉第旋轉子<br/>磁石 45 度"]
FR --> P2["檢偏器<br/>45 度"]
P2 --> OUT["光纖輸出<br/>通過"]
end
subgraph R["反向路徑"]
REF["反射回光"] --> A2["檢偏器<br/>45 度"]
A2 --> AFR["法拉第旋轉子<br/>再轉 45 度"]
AFR --> BLOCK["起偏器<br/>90 度阻擋"]
end
圖說:法拉第旋轉具非互易性,正向偏振被對齊而通過,反向再旋轉後被輸入端偏振器阻擋。自繪示意。
技術原理
典型法拉第隔離器由起偏器、法拉第旋轉子、磁石與檢偏器組成。正向光先被起偏器整理成固定偏振,進入磁光材料後被旋轉 45 度,再通過設定在 45 度的檢偏器。
反向光從輸出端返回時,先通過 45 度檢偏器,再進入同一法拉第旋轉子。由於法拉第效應是非互易的,反向光不會「轉回去」,而是再沿同方向旋轉 45 度,總偏振角變成 90 度,因此被輸入端起偏器阻擋。
隔離度典型可達 >30-40 dB,高功率或高穩定雷射鏈路會要求更高隔離、低插損與低偏振相關損耗。磁光材料常見 TGG、釔鐵石榴石(YIG / garnet)等,溫度穩定性、吸收損耗與高功率可靠度是材料選擇重點。
關鍵參數 / 判斷指標
| 指標 | 意義 | 觀察重點 |
|---|---|---|
| 隔離度 | 阻擋反向光能力 | 典型 >30-40 dB,高功率雷射更嚴 |
| 插入損耗 | 正向光通過損失 | 低插損有利於鏈路 budget |
| 偏振相關損耗 | 偏振態造成的損耗差 | PII / PM 架構需特別管理 |
| 回波損耗 | 反射控制能力 | 影響雷射穩定與雜訊 |
| 功率承受度 | 高功率 CW / pump 能否長期運作 | ELS、EDFA pump 需關注 |
| 溫度穩定性 | 隔離度與插損隨溫度漂移 | TGG / garnet 材料與封裝設計 |
技術瓶頸 / 風險
- 高隔離與低插損難兼顧:偏振器、磁光晶體與封裝角度都會影響正向插損與反向隔離。
- 偏振架構選擇:PI 隔離器結構較簡單但偏振相關;PII 隔離器需雙折射晶體 walk-off,封裝更複雜。
- 保偏鏈路要求提高:CPO ELS 走保偏光纖時,多用 PM isolator,必須同時守住偏振消光比與隔離度。
- 材料供應集中:高品質磁光晶體與鍍膜由國際大廠主導,價格、交期與高功率規格可能成為瓶頸。
關鍵廠商
| 環節 | 廠商 | 角色 |
|---|---|---|
| 隔離器 / 濾光片 | 3163_波若威(櫃) | 光通訊被動元件,產品含隔離器、濾光片、WDM |
| 光通訊被動元件 | 3491_昇達科(櫃) | 光通訊被動元件產品線含隔離器 |
| 磁光晶體材料 | 國際大廠 | TGG、YIG / garnet 等材料與高階鍍膜主導者 |
應用場景
- 雷射輸出端防回光:保護 DFB、EML、CW laser,避免回光造成雜訊與模式跳動。
- EDFA pump / 輸出端:泵浦雷射與放大器輸出需要隔離反射,維持增益穩定。
- CPO ELS 高功率雷射保護:外部光源功率提高後,PM isolator 是保偏雷射鏈的重要保護件。
- FBG 鎖波鏈路:雷射、FBG 與隔離器共同形成穩頻與防回光設計。
相關技術
供應鏈
→ 供應鏈_光通訊
來源
- 報告_產業研究_光被動元件CPO_20260500,2026-05(隔離器、濾光片與 CPO 外部光源被動元件鏈)
- 供應鏈_光通訊(光通訊被動元件供應鏈位置)
- 技術_光通雷射元件、技術_FBG、技術_ELSFP、技術_CPO
- memo_光通雷射元件供應鏈_20260509,2026-05-09(雷射與泵浦鏈路的鎖波、防回光語境)