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LRCX.US

LRCX 海外 更新 2026-06-30

半導體設備

基本資料

Lam Research(科林研發,NASDAQ: LRCX),全球蝕刻設備與薄膜沉積設備龍頭之一,總部位於美國加州費利蒙。核心產品線為乾蝕刻(etch)、化學氣相沉積(CVD)及原子層沉積(ALD)設備,在記憶體(DRAM/NAND)與邏輯製程市場具重要地位。

在先進封裝領域,Lam Research 提供 SoIC 製程所需的矽穿孔(TSV)蝕刻設備及相關薄膜沉積設備,為 SoIC 3D 堆疊製程的設備供應商。富果研究(2026-06-20)將 Lam Research 列為 SoIC 製程設備供應商(TSV etch/沉積設備環節)。

Lam Research 在全球蝕刻設備市場佔有率與 Applied Materials 並列前茅,記憶體設備業務佔比高,但先進封裝業務持續擴張。財務數字建議參照 NASDAQ 財報。

資料來源:報告_富果_先進封裝SoIC產業_20260620

產品與應用

產品 / 服務 應用 相關客戶 / 下游
乾蝕刻設備(etch) TSV(矽穿孔)深孔蝕刻;SoIC 圖形轉移 2330_台積電(市)、三星、SK Hynix
CVD/ALD 薄膜沉積設備 TSV 絕緣層/阻障層/銅填充;SoIC 互連層 晶圓代工廠、記憶體廠
化學機械研磨(CMP)— 部分產品 平坦化 半導體廠

核心技術/競爭優勢

  • 全球蝕刻設備市場份額領先(與 TEL、Applied Materials 三強競爭)
  • 深孔 TSV 蝕刻技術成熟,SoIC 與 3D DRAM 堆疊製程需求帶動高深寬比蝕刻設備需求
  • 記憶體市場基本盤穩固,先進封裝為額外成長動能
  • 與台積電等領先客戶長期合作,設備驗證門檻高

供應鏈位置

  • 所屬供應鏈:SoIC 先進封裝設備供應鏈
  • 主要客戶:2330_台積電(市)(SoIC TSV etch 設備)、三星、SK Hynix、美光 等

相關公司

公司 關係 說明
2330_台積電(市) 客戶 / 下游 SoIC 製程 TSV 蝕刻/沉積設備採購方
AMAT.US(applied_materials) 同業/競爭 蝕刻/沉積設備市場重疊
KLAC.US(kla) 同業 半導體設備三大龍頭之一

關鍵 Claim

Claim 類型 來源 日期 信心
Lam Research 列為台積電 SoIC 製程設備供應商(TSV etch/沉積設備) analyst 報告_富果_先進封裝SoIC產業_20260620 2026-06-20

來源

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