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AMAT.US

AMAT 海外 更新 2026-11-09

半導體設備

基本資料

Applied Materials(應材,NASDAQ: AMAT),全球最大半導體設備商(依營收),總部位於美國加州聖克拉拉。核心產品線涵蓋薄膜沉積(CVD/PVD/ALD)、蝕刻、化學機械研磨(CMP)、離子植入、量測與檢測等,幾乎覆蓋晶圓製造全流程所需設備。

在先進封裝領域,應材提供 SoIC 製程所需的薄膜沉積(如銅互連層形成)、CMP 平坦化及蝕刻設備,為台積電 SoIC 製程設備供應鏈的重要參與者。富果研究(2026-06-20)將應材列為 SoIC 製程設備供應商。

應材為全球設備業龍頭之一,客戶遍及全球頂尖晶圓代工廠、記憶體廠,在先進製程技術轉換中具備高度議價力。財務數字建議參照 NASDAQ 財報及季報。

資料來源:報告_富果_先進封裝SoIC產業_20260620

FY26 第三季營收達 91 億美元(+25% YoY),創歷史同期新高;Non-GAAP EPS 3.50 美元(+41% YoY),毛利率 50.4%,已連續十三季年增。營運主要由半導體系統(Semiconductor Systems)與全球服務(Applied Global Services,AGS)兩大事業群構成:FY26Q3 半導體系統收入 70.4 億美元、占總營收約 77%;AGS 收入 17.8 億美元、占約 20%;其餘來自顯示器等業務。FY23A–FY25A 營收分別為 265.2/271.8/283.7 億美元(YoY -9%/+2%/+4%)。成長動能來自 DRAM/HBM 擴產、先進 Foundry/Logic(2nm、A14)與先進封裝投資同步擴張;客戶近期宣布逾十項新廠計畫,資本支出能見度已延伸至 2030 年。(來源:報告_國泰_AMAT_20260814,國泰,2026-08-14)

產品與應用

產品 / 服務 應用 相關客戶 / 下游
CVD/PVD/ALD 薄膜沉積設備 介電層、金屬層成膜;SoIC hybrid bonding 銅互連 2330_台積電(市)、三星、英特爾
CMP 設備 晶圓平坦化;SoIC 接合前表面處理 全球主要晶圓廠
蝕刻設備 圖形轉移、TSV 形成 邏輯/記憶體廠
離子植入設備 摻雜製程 晶圓代工廠
量測/檢測設備 製程控制 半導體廠

核心技術/競爭優勢

  • 全球半導體設備營收規模最大,研發投入具規模優勢
  • 薄膜沉積與 CMP 市場份額全球領先
  • 先進封裝(hybrid bonding、SoIC)需大量沉積與平坦化設備,應材受益於需求擴張
  • Materials Engineering 戰略:聚焦材料科學差異化,提升設備與製程整合附加值
  • 投資人活動後管理層說法(GS SEMICON West 會議,2026-10-14):每節點 WFE 強度提升的架構已由客戶程式化鎖定(產業定價為不可控變數);200bps 市占提升目標受中國出口管制排除項影響大;2030 年毛利率 54% 目標可能有上檔但成本多為變動性質;以 e-beam 專長切入約 $9bn 的光學量測相鄰市場;AGS 長期營收年增中段十位數(mid-teens),新機台的服務附掛率高於既有裝機。

EPS 記錄

只放實績(A);預估值進「EPS 預估」與「財測假設」。

季度 Non-GAAP EPS (US$) YoY 備註
FY26Q3 3.50 +41% 營收 91 億美元(+25% YoY),毛利率 50.4%(連續 13 季年增);來源:國泰(2026-08-14)

EPS 預估

年度 國泰 EPS(報告日:2026-08-14) 備註
FY26E 12.45 全年營收預估 342.9 億美元(+21% YoY),EBITDA 130 億美元(margin 37.9%)
FY27E 14.95 全年營收預估 400 億美元(+17% YoY),EBITDA 153 億美元(margin 38.3%),FCF 95 億美元
年度 Bloomberg 共識(券商財管部整理,2026-11-05) 備註
FY26Q4(8-10 月) 營收 US$104.64 億(YoY 約 +54%)、EPS 4.268 公司財測營收 US$97.5-107.5 億(YoY +43% 至 +58%)、調整後 EPS 3.82-4.22;共識營收落在財測中上緣、EPS 已高於財測上緣;預計 2026-11-12 公布

財測假設

來源(日期) 模型 / 推導鏈 關鍵假設 產出
國泰(2026-08-14) FY26 全年營收=前三季實績(70.1+79.1+91.2 億美元)+Q4 財測(102.5 億美元) DRAM 擴產+先進 Foundry/Logic 設備需求+先進封裝高速成長;AGS 全年收入增幅預估 >20% FY26E 營收 342.9 億美元(+21%),EPS 12.45,EBITDA 130 億美元
公司 guidance(2026-08-14 法說,FY26Q4) 公司自結財測 半導體系統收入將首次逼近 80 億美元 FY26Q4 營收 102.5 億美元(QoQ +12.6%),EPS 4.02 美元(QoQ +15%)
國泰(2026-08-14) FY27 展望:客戶新廠計畫逾十座、設備製造產能至 2028 年較目前倍增 客戶資本支出能見度延伸至 2030 年 FY27E 營收 400 億美元(+17%),EPS 14.95,EBITDA 153 億美元,FCF 95 億美元
券商財管部(2026-11-05) 財報前瞻:Bloomberg 共識對照公司財測區間與歷史超預期紀錄 動能來自 DRAM、先進製程晶圓代工與先進封裝;過去三年營收平均超出預期 1.79%(機率 91.7%)、EPS 平均超出 5.48%(機率 100%);財報後 1 日選擇權隱含波動 7.11%;市場焦點為明年(FY27)設備支出展望(DRAM 與先進製程) FY26Q4 共識營收 US$104.64 億、EPS 4.268(高於財測上緣 4.22,門檻已高)

本份「US ALERT」快報未列示正式目標價與評等(僅附評等定義表,未指派具體評等/TP)。

風險與注意事項

  • 中國出口管制:FY25 中國市場仍占公司營收約 30%,美國若擴大先進設備出口管制可能影響部分需求(國泰,2026-08-14)
  • 股價對設備支出展望敏感:財管部指出 08/13 財報後單日 -5.1% 至 US$507.18,10/13 投資人日未提供產業支出預測再跌 6.7%;11/04 收 US$369.40,較財報後約 -27%、較 06/30 高點回落近 49%、年初至今仍 +44%;若 FY27 設備支出展望仍保守,股價恐延續弱勢;若 EPS 高於共識、營收近財測上緣並對 DRAM 與先進製程給出成長展望,股價可望止跌(券商財管部研判,2026-11-05)
  • 景氣循環:半導體設備產業具循環特性,AI 投資週期放緩、HBM 擴產不如預期、先進封裝需求降溫或晶圓廠資本支出延後,均可能影響營收與獲利成長

目標價與評等

券商 報告發布日 評等 目標價 評價基礎 來源
Goldman Sachs 2026-10-14 Buy(on Conviction List) US$670 32x P/E × 正常化 EPS US$21.00 報告_GS_SEMICONWest2026_20261014
Morgan Stanley 2026-07-23 Equal-weight US$647 設備月報評等快照(7/22 收盤 US$554,隱含 +16.8%);共識 P/E F1/F2/F3 45.1/32.8/25.8 倍 報告_MS_半導體生產設備月報_20260723

下檔風險(GS):增額出口管制、中國本土供應商搶市。AMAT/LRCX 記憶體曝險偏高,受惠 DRAM 產業供給吃緊(GS,2026-10-14)。

關鍵 Claim

Claim 類型 來源 日期 信心
Applied Materials 列為台積電 SoIC 製程設備供應商 analyst 報告_富果_先進封裝SoIC產業_20260620 2026-06-20 中
應材為全球最大半導體設備商(依營收) public_info 業界公認 — 高

供應鏈位置

  • 所屬供應鏈:SoIC 先進封裝設備供應鏈
  • 主要客戶:2330_台積電(市)(SoIC 沉積/CMP/蝕刻設備採購方)、三星、英特爾、SK Hynix 等

相關公司

公司 關係 說明
2330_台積電(市) 客戶 / 下游 SoIC 製程薄膜沉積、CMP、蝕刻設備主要買家
KLAC.US(kla) 同業 製程控制/量測設備領域重疊
LRCX.US(lam_research) 同業 蝕刻/沉積設備領域競合

來源

相關頁面