Stock LLM Wiki

山太士_3595_20260616

更新 2026-07-10

PDF 原檔:山太士_3595_20260616_original.pdf

已驗證圖片清單

無真資料圖——全份為文字排版筆記(FIELD NOTE 整理版),15 頁均為標題卡、表格與條列文字,無製程照片或數據圖表(2026-07-10 逐頁渲染確認)。

原始內容

技術簡報重點整理 | F I E L D N OT E

AMC Materials -山太士

TWSE: 3595

抗翹曲平衡膜( Balance Film )技術簡報

先進封裝關鍵材料 ── 產品技術、應用製程與商業化進度

目 錄

二、公司沿革與發展歷程
三、核心技術平台與專利佈局
四、產業背景:先進封裝的翹曲挑戰
4-1. 翹曲根源與物理機制
4-2. 翹曲隨層數增加而加劇
五、核心產品:抗翹曲平衡膜( Balance Film )
5-1. 產品定位與優勢
5-2. 三大產品系列與工作原理
5-3. 完整產品規格對照表
六、製程耐受條件與材料壽命
七、產品應用例-後晶片製程( Chip Last )
八、產品應用例-先晶片製程( Chip First )
九、 Chip First vs. Chip Last 差異比較
十、商業化進度
十一、產業延伸討論: CoWoS/CoPoS /PCB 跨入
十二、 QA 段落重點整理

BALANCE FILM TAM

US$278M

2029E | YOY ~30%

17

TW 11 + JP 4 + US 1 + KR 1

一、 投資摘要、關鍵指標與市場規模預估

BALANCE FILM TAM

US$278M

核心論點

  • 抗翹曲平衡膜是先進封裝( FOWLP/FOPLP/CoWoS )製程良率的關鍵 enabler --沒有整平就無法植錫球,製程 走到 90% 卻無法完成最後 10% 。
  • 產品線涵蓋製程前、中、後三個階段 ( SEK-700/800/900 系列),形成完整的翹曲控制方案。
  • 市場預估 2026→2029 年 YOY ~30% ( US$45M → US$278M ),公司最快客戶 2026H2 進入量產。
  • 技術護城河 : 75 篇專利、 230°C× 3hr× 5 cycles 耐受能力、高真空環境相容性( 6 分鐘達 10 ⁻⁷ torr )。
  • 目前 30+ 研發人員全力投入,年底前再增加 10 ~十幾人。

抗翹曲平衡膜市場預估

2026E 2027E 2028E 2029E YOY
市場規模( US$M ) 45 162 210 273 ~30%

二、 公司沿革與發展歷程

年份 重要事件 策略意涵
1995 AMC 成立,以客製化裁切加工服務起家 -
2006 成立研發部門 自主研發起步
2007 擴展液晶顯示材料生產 光電切入
2014 - 15 LED 製程材料量產;研發部擴編,熱解膠帶開發 材料多元化
2017 正式踏入半導體封裝製程材料開發 --發現面板級封裝已出現翹曲問題 關鍵轉折
2018 半導體封裝材料量產;開始開發抗翹曲膠帶,主要先做圓形( wafer ) Balance Tape 元年
2019 OLED Sensor 膜材量產;平衡膜 / 研磨膠帶量產 -
2021 CP/FT 探針清潔片量產 -
2022 Panel Level Package 熱門→擴展至方形面板;雷射解膠量產。所有 Balance Film 用 壓膜( lamination ),非 spin coating 方形面板元年
2023 竹北廠落成; FOPLP 產品推進 產能擴充

最快 MP 客戶

2026H2

台灣晶圓級封裝

驗證客戶數

17 家

TW 11 + JP 4 + US 1 + KR 1

2026H2

50 + 25

專利佈局

75 篇

發明 50 + 新型 25

2024 - 25 晶背金屬化膠帶量產; TBDB 開發 -
2026E TBDB FILM 預計推出 新品上市

三、 核心技術平台與專利佈局

核心技術四大支柱

支柱 內容
黏著應 用 超黏黏著力 / 倒製黏著力 / 特殊黏著力
材料特 性 黏性解離( UV/ 熱 / 冷 / 雷射)、化學承受性(酸 / 鹼 / 溶劑 / 腐蝕氣體)、物理承受性(高溫高壓 / 冷熱衝擊 / 真空)、光學 性、電氣性、磨耗承受
材料加 工 精密模切 / 環保型精密塗佈 / 貼膜分條 / 多層膜複合加工 /CNC 成型 / 晶圓切割
整合能 力 掌握光學、電性、 CTE 特性,搭配客戶各種製程需求進行客製化開發

產品群定位

對應簡報圖片:半導體及光學膜相關產品群

  • 新開發重點產品(目前戰略核心) :抗翹曲平衡膜( Balance Film )、探針清潔片、暫時接著膠膜
  • 既有產品群 :晶圓切割材 / 晶圓保護膜 / 晶圓熱解離材料 / 晶背研磨材 / 晶背金屬化 / 晶圓雙面接著膠 / 光學膠、光學膜
  • 目前 30+ 研發人員 集中投入抗翹曲平衡膜;預計年底前再增加 10 ~十幾人

專利佈局

專利類型 已領證 申請中 撰稿中 合計
發明專利 23 20 7 50
新型專利 20 2 3 25
總計 總計 總計 總計 75

四、 產業背景:先進封裝的翹曲挑戰

4-1. 翹曲根源與物理機制

  • 傳統 12 吋晶圓做 IC/RDL 線路,使用的材料都是元素週期表上的元素(金屬等), CTE 通常很低, 基本上不會有翹 曲問題
  • 進入先進封裝( Fan-out 、 3D 堆疊)後,製程中加入大量 高分子材料 ( Epoxy 環氧樹脂、 PI 聚醯亞胺等)--碳氫 氧聚合物,元素週期表上看不到
  • 高分子材料的 收縮率非常大 , CTE 從幾十到上百都有可能;金屬元素 CTE 通常很低
  • 為了絕緣、封裝、堆疊,先進封裝必須放入很多高分子材料

翹曲的兩大來源

  • ①熱產生的脹縮: 製程中的高溫烘烤導致材料膨脹與收縮不均

  • ② CTE 收縮率不匹配: 金屬層(低 CTE )與高分子絕緣層(高 CTE )交互堆疊,冷卻時收縮量不同 → 造成微翹曲

4-2. 翹曲隨層數增加而加劇

  • AI 先進封裝需要的 I/O 數非常大,原本三、四層 RDL 可能不夠,需推到 七層、八層甚至十層以上
  • 工研院合作案例 :370×470mm 玻璃載板上做七層 RDL (七層絕緣層 + 七層金屬層),封裝完拿掉玻璃載板後, 翹 曲最高達 80mm (不是 80 micron )
  • 目前客戶最高階產品已做到 13P 13M ( 13 層絕緣層 + 13 層金屬層)
  • 即使用 2mm 厚的玻璃載板,高層數 RDL 堆疊後仍會被拉彎
  • 過度強行反向拉平會導致 中間層被拉裂、層間分離 --這是很多客戶正在發生的狀況

五、 核心產品:抗翹曲平衡膜( Balance Film )

5-1. 產品定位與優勢

  • Balance Tape 是透過 應力補償 的方式控制晶圓或面板的翹曲值
  • 它 不是真正解決收縮率問題 ,而是幫助製程可以走完,中間不要因翹曲造成對位死角、層間破裂
  • 不管是玻璃載板、矽載板或鐵板載板,都不可能完全解決翹曲問題; Balance Tape 是幫助製程順利完成的關鍵材料
優勢項目 說明
控制晶圓或面板製程翹曲 抑制翹曲使生產更流暢,大幅增加製程良率
超低的污染性 可抵擋電鍍液製程條件並不造成電鍍液汙染
耐化學藥品性 可滿足所有製程的酸(蝕刻液)、鹼(去光阻劑)液
製程後易撕除 完成製程後可藉由物理性方式輕易撕除
製程高真空度 無小分子逸散,避免濺鍍腔體受到污染
超高的耐熱性 可承受黃光製程230°C的高溫特性
製程的穩定性 可維持晶圓翹曲度,不受熱製程影響
廣範圍的應用 可用於晶圓或面板等級的應用

5-2. 三大產品系列與工作原理

系列 應用對象 使用端 工作原理 設備需求 解膠方式
SEK-700 12" 矽晶圓 / 玻璃面板 Wafer Fab 橡皮筋拉伸與回復特性 需特定設備 Non-UV
SEK-800 玻璃面板 Wafer Fab 材料熱收縮特性 一般貼膜設備 Non-UV
SEK-900 封裝樹脂( EMC )上 Wafer Fab /OSAT 材料往上收縮產生反向力 一般貼膜設備 UV

SEK-700 系列 -拉伸回復型

  • 需要特定的設備 ;設計原理:橡皮筋的拉伸與回復特性
  • 設備僅僅是達成目的的工具,重點是平衡膜能通過半導體製程
  • 操作流程 :① Balance Film Stretching (膜拉伸)→ ② Roller Lamination (滾壓貼合)→ ③ Film Cutting and Restoration (裁切四邊,膜回復力產生反向拉力)
  • 適用載板: Glass / Silicon | 適用製程: RDL
  • 此為最早期開發的產品,用於 RDL 製程前段已非常足夠

FOWLP FOPP SIEB(glass Oe-Iamination

SEK-800 系列 -熱收縮型

  • 使用一般貼膜設備即可 ,不需要特定客製化設備 → 客戶導入門檻低

  • 設計原理:材料收縮特性

  • 操作流程 :① Roller Lamination → ② Baking to Control Warpage (烘烤)→ ③ Cooling Material Shrinks (冷卻 後材料收縮產生反向力)

  • 適用載板: Glass (主要)

/ Glass+Silicon

  • 這是比較便宜的方案,不需要額外設備投資

SEK-900 系列 -Molding 面反向翹曲控制(製程良率關鍵)

製程良率最關鍵環節

FOWLP/FOPLP 產品完成玻璃層去除( glass de-lamination )後,失去玻璃載板支撐,封裝翹曲量顯著增加,導致後續 蝕刻、植球、回焊及助焊劑清洗 等製程無法順利執行。良率來自於把基板拿掉之後能不能順利植錫球。

  • 使用時機 :

molding 成型之後,玻璃載板移除後使用

  • SEK-900 貼在 molding ( EMC )表面上,將反翹的成品拉平

  • 實測效果:翹曲 -12mm → 0mm ;另一組 -17mm →

0mm

  • 適用載板: EMC | 解膠方式: UV

  • 這是整個製程良率最關鍵的環節 :製程走到約 90% 完成,剩下最後 10% 在做 bumping 或收尾,如果沒有整平就 做不下去

5-3. 完整產品規格對照表

型號 SEK 700 series SEK 700 series SEK 700 series SEK 800 series SEK 800 series SEK 800 series SEK 800 series SEK 800 series SEK 900 series SEK 900 series SEK 900 series
703 701 711 801 801-30 802 802-30 803 901 902 903
Method Equip. Equip. Equip. Shrink. Shrink. Shrink. Shrink. Shrink. Shrink. Shrink. Shrink.
Carrier Gls/Si Gls/Si Gls/Si Glass Glass Glass Glass Gls/Si EMC EMC EMC
Process RDL RDL RDL RDL RDL RDL RDL RDL Reflow Reflow Reflow
De-tape Non-UV Non-UV Non-UV Non-UV Non-UV Non-UV Non-UV Non-UV UV UV UV

六、 製程耐受條件與材料壽命

製程階段 對應條件要求
Balanced Film Lamination (貼膜) Anti-warpage : 0mm → +0.6mm
Ti/Cu Sputter (濺鍍) High Vacuum : 10 ⁻⁷ torr ; High adhesion
Ti/Cu/Au Plat (電鍍) Chemical resistance ; No pollution to plating tank
Photolithography (曝光顯影) Heat resistance : 230°C × 3hr × 5 cycles
Ti/Cu Etch Stripper (蝕刻去膜) Acid/alkali resistance ; Non-damage, Non-residue

關鍵耐受指標

  • 耐熱 :230°C × 3 小時為一個

cycle

  • 材料壽命 :一張 5 ~ 10 個 cycle

Balance Tape 可保證走完 ,無需每層 RDL 更換

  • 以往製程可能需要 2 ~ 3 個材料,現在一個材料可做一個 PM (一個絕緣層 + 一個金屬層)

  • 若客戶做 6P 6M ,意味著要用六張材料,成本很大;後來客戶要求能否做 3P 3M

  • 目前基本上一個材料可 guarantee 走 5 個 cycle ,對客戶 COO 非常有利

  • 真空環境 :材料在高真空環境中不會釋放小分子,避免濺鍍腔體污染

  • 以前一天都抽不到近乎真空,現在使用 Balance Tape 後 6 分鐘即可達到 10 ⁻ ² 到 10 ⁻⁷ torr

七、 產品應用例 -後晶片製程( Chip Last / RDL First )

後晶片製程( Chip Last )是先長 RDL 線路,長到最後再植 die ,所以線路是 越長越細 。

完整製程步驟

# 製程名稱 說明
1 Release Layer Glass 準備玻璃載板 + 雷射解膠層塗佈
2 UBMFabrication &1st Passivation Opening
3 1st RDL and 2nd Passivation Opening
4 2nd RDL and 3rd Passivation Opening
5 Micro Bumping Formation
6 Chip on Wafer Bonding withNCF
7 Wafer Molding Process
8 Laser De-bond and Cleaning
9 Solder Printing 植錫球

Balance Tape 三個使用時機

① 製程前使用( SEK-700/800 系列)

  • 使玻璃載板預先為 哭臉( convex ) 狀態 → 可使產品走更多道製程
  • 實測效果:玻璃載板從 0mm → +0.6mm

② 製程中使用( SEK-700/800 系列)

  • 已翹曲的玻璃載板由 笑臉( concave ) 調控為 哭臉( convex ) ,得以繼續後續製程
  • 實測效果: RDL 堆疊後翹曲 -1mm → 貼上第二片 Balance Film 後調回 +0.6mm

③ 製程後使用( SEK-900 系列)最關鍵

  • 將 Laser de-bond 後的成品由哭臉( convex )調控為 平整( Flat ) 狀態,以利後續清潔、植錫球
  • 實測效果: Molding 後翹曲 -17mm → 0mm ;另一組 -12mm → 0mm

翹曲的方向性變化(關鍵觀念)

  • RDL 堆疊過程中 :隨著高分子

/ 金屬層堆疊,載板被拉彎,向上翹

  • 有玻璃載板 + Balance Tape 支撐時 :可被拉平或反向控制

  • Molding 之後 :環氧樹脂高溫固化 + 大量收縮 → 整體往上翹非常嚴重

(預彎)

  • 玻璃載板雷射解膠拿掉之後 :原本向上翹的作用力反過來 → 變成

反翹(向下彎曲)

  • 這個反翹才是製程良率的關鍵點: 下面要植錫球,如果沒有拉平,根本沒辦法植錫球

八、 產品應用例 -先晶片製程( Chip First )

先晶片製程是先植 die , die 的線路很細,逐層往上長 RDL ,到最後對接 ABF ,線路是 越長越粗 。

2025 Touch Taiwan 展示案例(與工研院合作)

  • 使用 370 × 470mm 玻璃 載板,做出 7 層 RDL 先進封裝產品

  • 先晶片 7 layer RDL ( With SEK-801 ):貼上

Balance Tape 後可平整

  • 先晶片 7 layer RDL ( delamination glass

  • ):拿掉玻璃後翹曲達

80mm

  • 先晶片 7 layer RDL ( With dicing ):最終裁切成個別封裝單元

Chip First 的翹曲特性

  • 好處 :

die 放上去之後線路從細做到粗,容受度稍微大一點

  • 壞處 :先做先進線路製程,如果做到

1 micron 線路,連 OSAT 廠都吃不下來;翹曲嚴重時根本無法做

九、 Chip First vs. Chip Last 差異比較

比較項目 Chip First (先晶片) Chip Last (後晶片)
製程順序 先植 Die →後長 RDL 線路 先長 RDL 線路→後植 Die
線路方向 細→粗(最後對接 ABF ) 粗→細(最後對接 Die )
翹曲特性 後面做粗線路,容受度稍大 越做越細,對位精度要求極高
良率風險 前段線路極細( 1 μ m ), OSAT 機台不一定能處理 對位不好、曝光不好、尺寸差→良率下降
翹曲影響 翹曲嚴重時根本無法做 彎曲對位不好會產生尺寸差

十、 商業化進度

業務概況 -客戶驗證進度

製程應用 客戶代號 區域 驗燈 Sample Run MP 時程
晶圓級封裝 T○○ TW 2026H2
晶圓級封裝 A ○○ TW 2027~2028
晶圓級封裝 S ○○ TW - 2028
晶圓級封裝 P ○○ TW 2027~2028
晶圓級封裝 T ○○ JP 2028~2029
面板級封裝 A ○○ TW 2028~
面板級封裝 T ○○ TW 2028~
面板級封裝 I ○○ TW 2028~
面板級封裝 P ○○ TW - 2028~
面板級封裝 A ○○ JP - 2029~
面板級封裝 T ○○ JP 2029~
面板級封裝 S ○○ JP 2029~
面板級封裝 S ○○ KR - 2029~
面板級封裝 I ○○ US - 2028~2
封裝樹酯 T ○○ TW 2026H2
封裝樹酯 A ○○ TW 2027~2028
封裝樹酯 I ○○ TW 2027~2028

商業化時程觀察

  • 最快客戶預計 2026 下半年 即可進入量產( MP )
  • 台灣與日本均有客戶在進行驗證
  • 多數客戶已完成驗燈並進入 Sample Run 階段
  • 2027 ~ 2028 年為集中放量期( 4 家客戶預計此期間進入 MP )

十一、 產業延伸討論: CoWoS / CoPoS / PCB 跨入

CoWoS vs. CoPoS

  • CoPoS 和 CoWoS 技術本質上其實是一樣的( WoS = Wafer on Substrate )
  • 方形與圓形都可以做 CoWoS
  • 技術難點 在於方形尺寸大( 500 ~ 600mm ),設備機台需要相對應
  • 方形的優勢 :總製程良率可得到更多顆的數量(面積利用率更高)
  • 方形面板仍有很多設備無法共用的問題
  • 目前做 CoPoS / CoWoS 用的是生產設備;方形面板有很多設備需要客製化,可能帶來設備相關業績

PCB 板廠跨入先進封裝基板的可行性

  • 講者認為 PCB 板廠要做 Panel Level Size 的先進封裝基板,技術上 非常困難
  • PCB 板廠的基本製程做出來本身翹曲度就很大
  • 關於 TGP 的幫助:瞬間加熱方面最主要沒有幫忙,且加熱後材料會下陷,各有優缺
  • 結論:對 Balance Film 的需求完全沒有影響 --不管客戶用什麼方式,他想要什麼就是給他什麼

Molding 製程補充

  • Molding 材料大多使用環氧樹脂;製程分三種:① 錠狀射出成型(最常見)② 液態 Spin Coating ③ 片狀壓膜 ( panel 製程用)
  • Molding 之後必須做長時間高溫烘烤將材料全部固化--這是造成嚴重翹曲的最大原因

玻璃載板厚度選擇

  • 可選厚度: 1.1mm 、 1.7mm 、 2.1mm 等;厚載板剛性較大,但高層數 RDL 堆疊後仍會被拉彎
  • 講者極力建議使用 透明的玻璃載板 ,搭配雷射解膠設計(非透明載板在後段 UV 解膠時會有問題)

十二、 QA 段落重點整理

Q1

: 700/800 系列 vs. 900 系列的使用端差異?

  • 700/800 系列 :偏向在晶圓廠( Wafer Fab )端使用,主要用於 RDL 製程段

  • 900 系列 :偏向在 OSAT 端使用,用在 molding 成型之後,解決最後 10% 製程的翹曲問題

Q2 :方形面板的尺寸? Balance Film 是用滾塗還是旋塗?

  • 方形面板大約 370 × 470mm ( 2.5 代線)等尺寸
  • 所有 Balance Film 都是用壓膜( lamination ) ,不用 spin coating

Q3 :越做越大時,翹曲是否更嚴重?

  • 是的,越做越大翹曲會更嚴重
  • Chip First :先做細線路往上,到最後做粗線路,容受度稍大
  • Chip Last :先做粗線路,到最後做細線路(如從 40 μ m 做到 1 μ m ),翹曲嚴重時根本無法做

Q4 :

PCB 板廠跨入 Panel Level Size ,還需要 Balance Film ?

  • PCB 板廠要做先進封裝製程技術上很難,但 對 Balance Film 的需求完全沒有影響

Q5 :

CoPoS 跟 CoWoS 在方形 / 圓形上的難點差異?

  • 本質上是一樣的技術;方形難點在設備機台( 500 ~ 600mm );優勢是更高的面積利用率

Q6 :做 CoPoS 之後材料端的設備需求會增加?

  • 方形面板有很多設備需要客製化,這部分可能帶來設備相關業績
  • 客戶最希望設備可以延續所有人的製程,但方形面板確實有設備缺口