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活動_高明鐵4573_群益導覽技術交流會_20260903

原始紀錄

原始紀錄

群益導覽高明鐵(4573)Call memo

2026/09/03

導覽/技術交流會,內容主要圍繞一套光學對準與檢測相關設備:包括設備定位(具備 1.6T 等級能力、雙透鏡結構、光學耦合精度要求高)、操作流程(封裝/固化等流程之控制與半自動特性)、以及以鐳射透過繞射/結構光進行晶圓/光柵或光學結構檢測、由系統輸出分數或以指定波長進行檢查。會上亦提到未來發展方向與產業趨勢(例如朝更高速、更高精度、更精密化,以及往光通訊/CPO 等方向延伸),同時就資料提供責任邊界、以及客戶需求(波長指定、參數設定)交換了理解。

🗂️ 主要議題與討論

  • 主題一:與參訪設備相關的定位、能力與核心結構

  • 設備定位提到屬於“in search 3”相關動作/用途。

  • 設備能力等級提到“1.6T”級別以上,並且提到是採用“雙透鏡”相關設計。
  • 核心強調光學耦合精度要求最高,並提到有以光學方式做避回路控制。
  • 解析度提到“十 line米”;整體精度可到“正負 50 奈米”量級。
  • 結論:會議共識是——這套設備主打高精度光學對準與光學耦合能力,以支援後續檢測或設備工序。
  • 主題二:半自動流程(上料人工、對位元自動、其餘依客戶設定/工藝)

  • 半自動特性:上料(放置/接上)部分為人工;而“對位”動作為自動;封裝/側邊等動作由系統流程協助完成。

  • 對位與重對位:提到流程中第一次對位元後為某種工序目的;第二次做大渦旋/再處理,基本上沒有再重新對位問題,因為能夠精准回到指定位置。
  • UV 過程提到可能會產生形電/影響(內容以原文語氣描述),因此會在過程中做比較/比對。
  • 固化時間等變數:提到固化時間、以及客戶設定的工藝設計會造成變化。
  • 結論:操作模式屬“人工上料 + 系統自動對位元 + 依客戶參數與工藝做封裝/固化確認”。
  • 主題三:封裝/檢測過程的控制方式與驗證邏輯

  • 封裝/側邊同步:提到一邊封、一邊側,並確保封好時狀態 OK,符合設定標準。

  • 系統比對邏輯:提到在設定功能/標準後,會與標準進行比對,比對通過才封起來(以確認封裝品質)。
  • 結論:設備以“客戶標準比對”作為封裝合格判定依據,確保封裝狀態符合要求。
  • 主題四:用鐳射+繞射/結構光進行檢測、輸出結果與責任邊界

  • 檢測原理:提到以“打一個方向對準→注射/照射→經過不斷繞射→得到照射分數”,用分數作為檢測結果描述。

  • 議及偏射/面射型鐳射等概念:提到要形成某種光束型態(例如變成面射/偏射相關型式)需要透過特定機構/裝置,且“繞射—光閘之間週期”非常重要;精准度決定變化結果。
  • 資料提供:提到“提供客戶怎樣資料”方面,回答是由客戶抽樣並上傳結果;他們(設備方)主要負責確定打出去的鐳射光是否符合標準,而“非由他們決定”最終決策或資料判讀。
  • 波長需求:提到客戶會指定需要的波長;不同波段亦會有相關問題(原文零散提及)。
  • 結論:設備方責任集中在“光源輸出符合標準”與檢測流程支援;實際判讀與採用資料由客戶側定義/決策。
  • 主題五:未來技術發展方向與產業趨勢討論

  • 產業趨勢描述:提到“越來越快”帶來設備需“越來越精密”,因此機器設備需要提高精密度以因應。

  • 發展方向:提到往“光…區塊”發展,並提到光通訊/ CPO 發展趨勢作為脈絡。
  • 結論:未來方向聚焦在更高速需求下的高精度與更精密設備能力,並延伸至光通訊相關技術板塊。