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memo_新應材_KGI_CorporateDay_20260601

更新 2026-06-03

原始紀錄

20260601_新應材_ KGI Taiwan Corporate Day_memo

摘要/簡評:

沒有講新東西而且也講得很少,我覺得近期新應材沒有什麼新題材目前市場都已知,之前5月小場說今年2nm新增的廠只有兩座,明年預估5-7座,所以明年營收成長幅度會比今年大(今年半導體業務預計才成長 20% -25%),小場還有說有部分材料用於CPO封裝結構的保護層(屬間接材料)正在驗證,下半年有機會公布,跟明年KrF光阻有機會過驗證,近期應該主要可以關注的就這些。

outlook

l   2025年研發費用約佔營收9%(原目標為10%),部分研發費用可能遞延至今年,預估今年研發費用將高於去年,會超過10%。

l   高雄二期廠房與設備已架設完成,正在驗廠,目標明年初可以開始量產。

l   新應材供應日本跟美國廠都是運送過去,今年無海外擴廠計畫。

l   公司CB剛籌資完成,接下來會進行現增,資金主要用在龍科新廠做研發投入,龍科廠會有小批量生產線(SVM線),作為量產前的試產使用。

l   沒有門檻的大宗材料會跟外購,但關鍵的添加劑會在龍科廠生產。

轉投資

l   歐利得負責100%表面改質劑rinse原材料合成,等到高雄二期驗證通過後,新應材可以自行合成,即完成合成、純化、配方一條龍產線。

l   昱鐳開發並生產CCL的Low DK樹脂原材料給CCL廠

l   新寶紘專門做先進封裝膠帶,除研磨膠帶外,未來也將開發切割Dicing用膠帶。

l   富宸材料為最新轉投資,主要營運氣體純化與分裝,目前兩個新廠預計在今年將陸續取得工程登記。公司看好富宸科技未來朝半導體前端應用發展,除微影外,其他製程也將涵蓋氣體應用。

Product

l   Rinse由40nm供應至2nm,既有配方的Rinse會沿用到1.4nm,目前也正在驗證新配方下一代Rinse for 1nm(舊配方已經夠好用可以繼續沿用到下一個節點)

l   BARC跟EBR由2nm開始供應

-          BARC 是2018年開發的,當時是5nm,良率比不上外商,後來3nm有機會可以測試,當時良率跟外商相當,故沒有打入台積。是直到2nm良率超過外商,才被台積所採用。(公司想表示前段材料門檻極高)

l   清洗劑並非在製程當中使用,而是新廠需要洗線時使用。

l   光阻劑希望可以在明年完成驗證,但驗證到量產還有一段時間。

l   兩樣後段材料已過驗證,皆應用在3DIC:

-          Temporary Protection Layer用於保護已封裝晶片,避免減薄過程影響良率,此保護層貼於Back Grinding Tape與晶片間,做為保護。

-          Plasma Dicing Glue

QA

l   KrF和ArF光阻營收目標?

-          明年還不會有營收能見度,預計在2030年才會有明顯營收,目標在2030年大幅超過顯示器營收。(之前小場說目標2030年拿下大客戶市場約3億美元)

-          全球光阻市場規模裡,KrF光阻是規模最大的,公司會把重心放在邏輯製程、前段製程。

-          Arf光阻液今年在邏輯製程才剛開始開發,還沒有具體量化營收目標。

l   南寶法說提到先進封裝膠產線已滿且良率不錯,想跟公司update?

-          公司無法談論未通過驗證的產品

-          目前先進封裝膠帶由日商壟斷,因此新應材會盡力協助新寶紘打入先進封裝。

-          新應材已協助新寶紘在南科取得研發中心,未來將在南科設立研發中心,一旦設立完成且驗證符合預期後,將進入量產階段。