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活動_天虹6937_群益導覽memo_20260903

群益證券導覽天虹(6937)Call memo

2026/09/03

本文檔記錄了2026年9月關於先進封裝及面板級半導體設備的技術交流,主要涵蓋玻璃基板加工中的雷射技術應用,以及日揚科技(Tianlong)在310x310mm方形面板傳輸平臺與沉積設備方面的最新進展。核心結論包括:玻璃基板加工需結合飛秒鐳射與幹法清洗以解決碎屑問題;日揚科技已實現310x310mm翹曲面板的穩定傳輸並獲第五台訂單,其技術路線堅持自主研發而非購買套裝,且明確反對通過物理壓制平整翹曲面板的做法,轉而採用視覺建模與氣流溫控適應現有形變。

🗂️ 主要議題與討論

  • 主題一:玻璃基板加工中的雷射技術應用
  • 技術痛點:玻璃基板挖孔後產生大量碎屑,傳統高能鐳射會導致碎屑殘留,進而影響後續玻璃生長或導致缺陷。
  • 解決方案:採用飛秒鐳射進行精密加工,配合幹法刻蝕(Dry Etching)徹底清除碎屑。此外,切割環節也採用鐳射直接燒穿替代鑽石刀具,以避免脆性斷裂。
  • 市場動態:Intel預計於2027年底開始提供Demo樣品,目前尚未進入量產階段。鈦昇(Tyson)等公司也在同步測試,將日揚等設備商列為候選供應商。

  • 主題二:日揚科技310x310mm方形面板傳輸平臺

  • 技術突破:推出全球首台針對310x310mm方形面板的PVD及沉積機台。核心創新在於利用視覺系統(非光學鏡頭)建立面板3D模型,識別邊緣、夾角及翹曲方向(“笑臉”或“哭臉”),從而實現穩定傳送。
  • 商業進展:該傳送平臺設計穩定,現場演示成功,目前已收到第五台訂單,投資回報率(ROI)較快。
  • 尺寸策略:當前重點攻克310x310mm良率問題,暫不計畫相容510x510mm或更大尺寸,因後者需重新設計平臺且市場良率尚待觀察。

  • 主題三:沉積設備(Sputter/ALD)的應用場景與技術路線

  • 產品相容性:目前的310x310mm傳送平臺為通用基礎,可掛載PVD、ECP、Ald等不同工藝腔體。明年第一季度將發佈專用的Panel Level Ald設備。
  • 光學應用拓展:除前段制程外,Ald設備正應用于智慧型眼鏡的光波導保護層開發。相比前段晶圓廠,光學客戶對顆粒控制要求較低,但對膜層折射率和厚度精度要求極高,且追求高產能以降低運行成本。
  • 研發狀態:前段制程合作處於委託實驗室開發階段,具體進展以官方新聞稿為准。

  • 主題四:應對面板翹曲的技術哲學對比

  • 日揚方案:拒絕使用物理方式將翹曲面板壓平後再鍍膜,認為此舉風險極高,易導致面板破裂或應力損傷。主張通過視覺檢測建立3D模型,利用氣流均勻控溫來適應面板原有形變。
  • 競品教訓:某設備商曾嘗試通過機械壓制平整面板以優化冷卻效果,但因破片率嚴重而被客戶產線全面停用。
  • 生產階段差異:目前處於R&D階段,面板翹曲形態各異,需高度適應性;進入Mass Production後,翹曲形態趨於一致,處理難度將降低。 天虹科技正將其戰略重心從晶圓前段制程轉向封裝應用,重點推廣Sputter技術在310x310mm面板尺寸上的均勻性控制及應力管理,並探索在AR光波導領域的應用。

天虹科技(Tianhong)技術轉型與應用拓展 - 產品策略調整:天虹科技將明星產品PELD/Sputter的應用場景從前段晶圓制程轉向後段封裝環節,以應對台機在前段制程未正式採用的現狀。 - 技術挑戰與突破:針對310x310mm標準面板尺寸,重點解決Seed Layer極薄(幾百至1000埃)條件下的沉積均勻性問題,以及金屬沉積後的面板應力影響。目前該方案正在驗證中。 - 新興應用領域**:除了傳統封裝,天虹科技正探索其在CN(碳化矽)與卡牌(可能指特定基板或元件)成績中的應用,特別是在AR眼鏡光波導領域展現出應用潛力。