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國泰證期，2026-05-08，買進，目標價 360 元（38x FY27 EPS）。FY26/27 EPS 預估 6.85/9.37 元。

報告要點

• 評等／目標價：買進，TP 360 元（前次 400→385→360 下修，因評價基礎改 38x FY27）；SOTP 特氣 50x、弘潔科設備清洗 30x。
• 1Q26：營收 8.6 億（YoY +290%），毛利率 51.0%，稅前盈餘 3.4 億創新高；但 1Q26 已無稅率抵減（稅率 22.5% vs 原估 17%），EPS 僅 1.33 元（低於原估 1.65）。
• 矽乙烷（Disilane）：與先進製程高度相關，N2 vs N3 用量 +50~100%；台特化 N3 市佔提升、N2 成最大供應商；UTR 由去年 50~60% 升至今年 70~80%；FY26 矽乙烷營收估 YoY +30~40%。
• AHF（無水氟化氫）：FY25 新品，乾蝕刻／設備清潔關鍵氣；屬戰略管制品（化武用途），日本供應異常凸顯在地化價值；FY26 隨 N2 放量，目標占特氣營收雙位數%。
• 弘潔科：8M25 完成併購（設備清洗+表面鍍膜，台灣:中國 7:3）；新竹廠（收購 Amkor 廠房）3Q26 開新產能，清洗/鍍膜 +100%/+50%；估今明年營收貢獻 YoY +21%/+33%。
• 產業：電子級矽烷（矽甲烷 SiH₄／矽乙烷 Si₂H₆／矽丙烷 Si₃H₈）主用於 CVD；全球矽甲烷年用量 6,650 噸/市場 4.5 億美元，矽乙烷年用量約 60 噸/市場約 3.0 億美元；台灣特殊氣體自製率僅 5%。
• 競爭地位：全球僅四家能量產半導體級矽乙烷（法國液空、日本三井、韓國 SK Materials、台特化），台特化為台灣唯一，寡佔。
• 財務（國泰估）：FY25/26E/27E 營收 19.9/37.9/47.2 億（YoY +127.9%/+90.5%/+24.3%）、毛利率 52.9%/52.6%/53.9%、EPS 4.20/6.85/9.37；調整後股數 147.68 百萬股；2027E 每股淨值 36.1、ROE 19.84%。

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原始內容

台特化 4772 TT ( 化學工業 )

兩大業務共同成長

投資與評價

1. 1Q26 營收符合我們先前預估，惟因 1Q26 已無稅率抵減，稅率達 22.5% ， 高於原先預期的 17% ，使 EPS 低於我們原先預估，僅達 1.33 元。
2. 展望 2Q26 ，研究部預估本業氣體業務與設備清洗業務營收皆呈現季增 趨勢，毛利率些微季增達 52.6% ， EPS 為 1.56 元。
3. 研究部預估矽乙烷 UTR 將從去年的 50~60% 提升至今年的 70~80% ， 隨 N2 產能將於 FY26 逐季爬升。
4. 以 SOTP 法作為評價基礎，特氣業務給予 50X ，設備清洗業務給予 30 X ，維持買進投資建議，目標價 360 元，以 38x FY27 獲利預估。

重點更新

1Q26 擺脫 4Q25 歲修陰霾，毛利率回穩

1Q26 營收達 8.6 億元，符合我們先前預估；毛利率為 51.0% ，季增主要係 因於公司每年固定歲修期間為 11 月，影響 4Q25 特氣出貨量及產能 UTR ； 稅前盈餘達 3.4 億元，為歷史新高，惟因 1Q26 已無稅率抵減，稅率達 22.5% ，高於我們原先預期的 17% ，使 EPS 低於我們原先預估的 1.65 元， 僅達 1.33 元。

弘潔科積極擴廠以因應客戶需求

先進製程對於製程純淨度要求大幅提升，設備清洗成為良率關鍵，弘潔科將 擴大台灣廠產能因應客戶需求。佔比台灣市場營收 7 成之新竹廠將於 3Q26 陸續開出新產能，清洗與鍍膜產能將分別成長 100%/50% ；台南廠金屬層 清洗將新增一條產線，鍍膜產能亦將以加班次方式增加 1/3 產能。研究部上 調弘潔科今明年營收貢獻預估，預估將分別年增 21%/33% 。

先進製程特殊氣體用量大幅提升

研究部看好在半導體材料供應鏈中，具有獨佔或寡佔地位之廠家，研究部看 好台特化作為台灣少數高階特殊氣體量產商，為其評價帶來支撐。矽乙烷等 特殊氣體於先進製程中用量大幅增加，且台特化於 N3 市佔率開始提升，至 N2 成為矽乙烷最大供應商，台特化將優先受惠於先進製程產能擴增。維持 買進投資建議，目標價 360 元，以 38x FY27 獲利預估。

買進 -維持買進

目標價：

360 元 +16.9%

收盤價：

308.00 元

公司資訊

台特化 ESG 評等

製造業 ESG 評等分配圖

資料來源：台灣指數公司，國泰證期研究部整理

王筠婷 / 半導體

+886-2-2326-9899#7961/ vanessawang@cathayfut.com.tw

EPS 以調整後股數 147.68 百萬股計算

Material Market Growth, USD Bill

16.5

14.5

12.5

10.5|

4.5

2.5

0.5

-1.5

Photomasks Photoresist Photoresist

Antories

Sputter

Targets

CMP SlurryS. Other/New

Pads

Materials

• 2026F|

Source:SEMI,Materials Market Data Subscription(MMDS),July 2025|

訪談內容

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1Q26 擺脫 4Q25 歲修陰霾，毛利率回穩

1Q26 營收達 8.6 億元 (QoQ-1.5%/YoY+290.0%) ，符合我們先前預估；毛利率為 51.0%(QoQ+2.0 ppts/ YoY-7.2 ppts) ，毛利率季增主要係因於公司每年固定歲修期間為 11 月， 影響 4Q25 特氣出貨量及產能 UTR ， 1Q26 隨歲修負面因素排除而提升，另弘潔科毛利率亦受惠 於產品組合優化而提升；稅前盈餘達 3.4 億元 (QoQ+2.2%/YoY+194.7%) ，為歷史新高，惟因 1Q26 已無稅率抵減，稅率達 22.5% ，高於我們原先預期的 17% ，使 EPS 低於我們原先預估的 1.65 元，僅達 1.33 元 (QoQ-11.8%/ YoY+90.9%) 。

展望 2Q26 ，研究部預估本業氣體業務與設備清洗業務營收皆呈現季增趨勢，預估營收為 9.09 億 元 (QoQ+6.1%/YoY+245.9%) ，毛利率些微季增達 52.6%(QoQ+1.6 ppts/ YoY-5.7 ppts) ， EPS 為 1.56 元 (QoQ+17.8%/ YoY+98.0%) 。

預估矽乙烷業務 FY26 將逐季成長

台特化之矽乙烷業務與先進製程高度相關。矽乙烷可以在比矽甲烷更低的溫度下形成高品質矽薄 膜，滿足如 FinFET 、 GAA 晶體管等對材料精度和應力的嚴苛要求，反應速率更快，所生成的薄 膜亦具備更高緻密度、更平滑表面及更佳的摻雜兼容性。

據研究部通路訪查， N2 相較於 N3 製程，矽乙烷用量將增加 50~100% ，伴隨半導體在地化趨 勢，台特化至 N3 製程市佔率開始提升，至 N2 製程成為主要供應商。研究部預估矽乙烷 UTR 將 從去年的 50~60% 提升至今年的 70~80% ，隨 N2 產能將於 FY26 逐季爬升，研究部預期矽乙烷 業務將逐季成長，將持續成為台特化今明年主要營收成長動能，預估 FY26 矽乙烷營收年增約 30~40% 。

圖一 . 半導體氣體市場規模持續成長

資料來源：台特化，國泰證期研究部整理

一年一新品持續推進， AHF 於 FY26 進入成長加速期

AHF 為台特化於 FY25 推出之新品，其為乾式蝕刻及設備清潔關鍵氣體，隨半導體線寬線距縮 小，乾式蝕刻道數增加， AHF 重要性顯著提升。供應面來看， FY25 日本供應商出現供應異常， 更加凸顯供應鏈中斷風險，且因 AHF 涉及化學武器用途，被多數國家列為戰略管制品，在地生 產 AHF 對台灣半導體供應鏈而言具有安全意義，帶動客戶提高尋求台廠供應鏈積極度。研究部 預期 AHF 將於 FY26 隨 N2 量產開始放量，公司預期 AHF 營收將達到特氣營收占比雙位數。

Wet

2026/05/08

台特化 4772 TT

弘潔科積極擴廠以因應客戶需求

台特化於 8M25 完成設備清洗商弘潔科之併購。弘潔科主要業務為半導體設備及零組件超高潔 淨清洗與表面鍍膜，台灣與中國市場營收占比約 7:3 。隨製程越演先進，對於製程純淨度要求大 幅提升，設備清洗成為良率關鍵，弘潔科將擴大台灣廠產能因應客戶需求。佔比台灣市場營收 7 成之新竹廠於 FY25 收購 Amkor 廠房，將於 3Q26 陸續開出新產能，待新產能完全上線後，新 竹廠清洗與鍍膜產能將分別成長 100%/50% ；佔比台灣市場營收 3 成之台南廠部分，金屬層清 洗產線將新增一條產線，鍍膜產能亦將以加班次方式增加 1/3 產能。考量弘潔科大幅擴廠，研究 部上調弘潔科今明年營收貢獻預估，預估將分別年增 21%/33% 。

先進製程特殊氣體用量大幅提升

研究部看好在半導體材料供應鏈中，具有獨佔或寡佔地位之廠家，研究部看好台特化作為台灣少 數高階特殊氣體量產商，為其評價帶來支撐。展望今明年，台系晶圓廠客戶持續將製程升級至 N3/N2 等先進製程，且後續亦有諸多新廠規劃。矽乙烷等特殊氣體於先進製程中用量大幅增加， 且台特化於 N3 市佔率開始提升，至 N2 成為矽乙烷最大供應商，台特化將優先受惠於先進製程 產能擴增。

中長期而言，研究部看好台特化一年一新品策略持續，持續跨足 AHF 、 ALD precursor 等不同製 程領域，在半導體在地化趨勢下，公司中長期成長動能明確。研究部預估 FY26/27 整體營收分 別為 37.9/47.2 億元 (YoY+90.5%/+24.3%) ，毛利率分別為 52.6%/53.9% ， FY26/27 EPS 分別 為 6.85 元 /9.37 元 (YoY ＋ 63.1%/+36.8%) 。台特化目前交易於 45/33 倍之 2026/2027 年獲利 預估，過去歷史本益比區間為 45X~70X ，評價位於過去水平低檔。研究部以 SOTP 評價法作為 評價基礎，特氣業務給予 50X 本益比，弘潔科設備清洗業務給予 30 X 本益比。研究部維持買進 投資建議，目標價 360 元，以 38x FY27 獲利預估。

表一 . 台特化 FY26 損益預估調整分析

( 單位﹔百萬元 )

資料來源：國泰證期研究部整理

表二 . 台特化 FY27 損益預估調整分析

( 單位﹔百萬元 )

資料來源：國泰證期研究部整理

2026/05/08

台特化 4772 TT

產業概況

矽烷氣體主要應用於 CVD 製程

電子級矽烷氣體為先進半導體製程和太陽能產業的重要材料，包括矽甲烷（ Monosilane, SiH ₄ ） 、 矽乙烷（ Disilane, Si ₂ H ₆ ）和矽丙烷（ Trisilane, Si ₃ H ₈ ） ，在半導體製程中，電子級矽烷氣體主要 用於 CVD （化學氣相沉積）製程。矽烷類氣體具有以下特性，使其適合用於 CVD 製程： 1) 化學 反應活性與分解機制：具有極高的化學反應活性，易於在沉積條件下熱分解。 2) 成膜效率與溫度 適應性：矽烷系列前驅氣體可實現高效的薄膜沉積，在適當條件下可以達到相當快的沉積速率， 另外矽烷對製程溫度具有彈性適應性。 3) 薄膜均勻性與成膜速率控制：氣態矽烷易於在整個晶 圓表面均勻傳輸與擴散，可在大面積基板上形成均勻的薄膜。 4) 高純度製程與雜質控制的可行 性：半導體 CVD 製程要求前驅物極高的純度。矽烷類熱分解後產物僅有矽和氫，沒有碳或氧等 雜質。根據工研院資料，在全球電子級矽烷氣體市場中，矽甲烷用量仍佔大宗，全年用量達 6,650 噸，市場規模約 4.5 億美元；矽乙烷全年用量約 60 噸，市場規模約 3.0 億美元。在半導體在地 化趨勢下，台灣特殊氣體自製率僅達 5% ，仍需高度仰賴日、美等海外廠商，顯示台灣在半導體 產業供應鏈的特殊氣體環節存在潛在供應風險，半導體在地化發展更顯重要，台特化作為台灣少 數高階特殊氣體量產商具獨特產業地位。

矽甲烷為目前在沉積製程中用量最大的矽烷氣體

矽甲烷（ Monosilane, SiH ₄ ）為目前在沉積製程中用量最大的矽烷氣體。雖在先進製程關鍵步驟 逐步被替代，但由於成本最低、供應穩定，目前全球半導體用量仍占絕大多數。矽甲烷於早期半 導體製程中廣泛用作化學氣相沉積氣體，但在 N3/N2 等先進製程，其角色明顯下降。由於 FinFET 和 GAA 極小尺寸下需要低溫、高反應性的沉積條件，矽甲烷需在 520 -750 ° C 的高溫下才得以 分解，反應性已不足以支撐線寬微縮需求。因此在 N3/N2 製程中，矽甲烷其應用主要限於某些 非關鍵沉積步驟，關鍵站點中，矽甲烷正被更高階矽烷取代。

矽乙烷成為主流

隨製程越演先進，矽乙烷（ Disilane, Si ₂ H ₆ ）於部分製程開始取代矽甲烷，在 N3 以下先進製程 之沉積製程中重要性逐漸提高。矽乙烷可以在比矽甲烷更低的溫度下 （約 420 -520 ° C 即可沉積） 形成高品質矽薄膜，滿足如 FinFET 、 GAA 晶體管等對材料精度和應力的嚴苛要求，反應速率更 快，所生成的薄膜亦具備更高緻密度、更平滑表面及更佳的摻雜兼容性。另外，相較於矽甲烷， 矽乙烷的材料特性能顯著降低薄膜缺陷與漏電風險，有助於改善良率。在先進製程高良率要求下， 矽乙烷在製程推進中取代矽甲烷比例逐漸提升。據研究部通路訪查， N2 相較於 N3 製程，矽乙 烷需求將增加 50~100% ，顯示矽乙烷在摩爾定律推進過程中具有等比級數的放大效應。

就全球矽乙烷市場來看，台特化是全球僅有四家能夠量產半導體級矽乙烷的廠商之一，也是台灣 唯一具備此技術的公司，其他三家分別是法國液空、日本三井化工與韓國 SK Materials 。此產品 因進入門檻極高、專利保護完整，屬於寡佔市場，確保了台特化在全球供應鏈中的獨特地位。

2026/05/08

台特化 4772 TT

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公司簡介

台特化為台廠唯一、全球唯四矽乙烷量產商

台灣特品化學股份有限公司成立於 2013 年，為中美晶 (5483 TT) 轉投資公司。台特化著墨於化學 沉積製程 (CVD) 特化氣體領域，除代理銷售矽甲烷 (Silane) ，更成為台灣唯一、全球唯四具備矽乙 烷 (Disilane) 量產能力之製造商，並且開始跨入蝕刻 / 清洗及原子層沉積 (ALD) 材料領域，已小量 生產乾式蝕刻氣體無水氟化氫 (AHF) ，原子層沉積 (ALD) 製程前驅物則積極開發中。

目前業務可分為 1) 自製產品：產品包括氣體沉積製程 (CVD) 所需的矽乙烷 (Disilane) 、矽丙烷 (Trisilane) 、蝕刻製程用無水氟化氫 (AHF) 等。 2) 代理銷售服務：國內代理矽甲烷 (Silane) ，另有 海外代理特殊氣體。自製產品營收占比約七成，代理銷售服務約三成。

圖二 . 公司產品簡介

資料來源：台特化，國泰證期研究部整理

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台特化 4772 TT

ESG 政策

⚫ 減碳策略

台特化自 2022 年起，每年進行溫室氣體盤查，採營運控制權法進行組織邊界設定，範疇包含： 直接溫室氣體排放、輸入能源間接溫室氣體排放、由組織使用的產品所產生之 間接溫室氣體排 放， GWP 值來源選擇引用 IPCC AR6(2023) 所界定之全球暖化潛勢 (the Global Warming Potential, GWP) ，其中輸入能源間接排放量係依據經濟部能源局公布之 2023 年電力排碳係數 (0.494 公斤 CO2e/ 度 ) 計算，並依據 ISO 14064-1:2018 完成第三方查證。 2024 年盤查數據結 果顯示台特化溫室氣體排放強度為 3308.9027 公噸 CO2e/ 百萬 元營業額 ，較 2023 年減少 28.5% 。

⚫ 溫室氣體管理

台特化將「溫室氣體排放量年減少率」列為重要績效指標項目，提出檢討報告給管理階層， 且 每年檢視去年之績效，藉以提出改善措施及檢視改善措施之有效性。 台特化於 2022 年度開始 持續推行溫室氣體盤查，以利本廠確實掌控溫室氣體排放情形。台特化承諾： 1. 推廣節約能源， 降低電力使用量。 2. 推廣提高效率、降低不必要能源消耗。 3. 提高設備效率，做好設備保養， 減少冷媒逸散。

另外，以 2023 年為基準年設定短、中長期節能目標。

• 1) 2024 年目標﹔溫室氣體排放量較基準年減少 10% 、單位產品能源消耗減少 10% 。
• 2) 短期目標 2025 年﹔溫室氣體排放量較基準年減少 2% 、單位產品能源消耗減少 2% 、再生 能源使用率 10%(RE10) 。
• 3) 中長期目標﹔ 2030 年再生能源使用率 60%(RE60) 、 2040 年再生能源使用率 100%(RE100) 、 2050 年淨零排放

⚫ 能源管理

台特化的主要能源使用有電力、液化石油氣及柴油，最大宗為電力使用，為提升能源效率，台特 化於 2024 年導入 ISO 50001 能源管理系統，改善措施以節電為優先考量。 台特化定期鑑別高 耗能的熱點區域及設備，並進行性能量測，例如：空調機房的冰水主機、冷卻水泵等。 現有管理 措施： 2024 年台特化將傳統輕鋼架燈具汰換為 LED 平板燈、將柴油堆高機汰換為電動堆高機、 傳統防爆燈具汰換為 LED 防爆燈具 ( 減少碳排 ) ；此外，所有汰換之冷 氣設備皆改採使用環保冷 媒，以減少氟化溫室氣體（例如 HFC ）的使用與排放。 未來因應氣候變遷，台特化訂定溫室氣 體、能源使用量、用水量及廢棄物「單位排放量密集度」短中期目標 (1-5 年 ) 每年減少 1% 之減排 目標。

• 1) 2030 年底前達到 20% 用電量為再生能源。
• 2) 2050 年底前全公司淨零碳排及使用 100% 再生能源。

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202302

202302

A +9517

•• Att#(%)

PB band

PE band

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• 70|

50|

45

60

50 40 35

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PB15

• 40

30

25

• PB13.25

XSL'89 -

• 52.50X

PB11.50

30

XSZ9t -

• PB9.75

20

• 40X

... PB8

15

20

Price

10

股價相對大盤走勢圖

0

近三年單季營收與毛利率走勢圖

未來 12 個月 P/E( 本益比 ) 區間圖

近三年負債比率與存貨週轉天數

未來 12 個月 P/B( 股價淨值比 ) 區間圖

台特化 4772 TT

損益表

資產負債表

資料來源 : 公司資料及國泰預估

台特化 4772 TT

資料來源 : 公司資料及國泰預估

現金流量表

資料來源

:

公司資料及國泰預估

台特化 4772 TT

17:919

+886-2-2326-9899#1600 #8K2 +886-2-2326-9899#9835

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EXE

+886-2-2326-9899#1145

michael@cathayfut.com.tw

$7A12

IP •751

+886-2-2326-9899#1944

henrylin@cathayfut.com.tw

751

+886-2-2326-9899#7961

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+886-2-2326-9899#7960

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+886-2-2326-9899#9814

pengjunlee@cathayfut.com.tw

台特化 4772 TT

HERE •EME

+886-2-2326-9899#9844

dufflu@cathayfut.com.tw

FI A: CPA

ESE CA

ICAE· 7594 ESG

+886-2-2326-9899#9812

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FET

+886-2-2326-9899#1750

vanessawang@cathayfut.com.t

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AIR 59 PCB

+886-2-2326-9899#1940

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AA • #2÷0

+886-2-2326-9899#1751

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HAIZE

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SE FE1

F7 AR

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+886-2-2326-9899#9856

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ELE

IPC

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+886-2-2326-9899#7964

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**2

+886-2-2326-9899#1752

meira.lin@cathayfut.com.tw

FA F AI

投資評等定義

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